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拓荆科技 电子元器件行业 2023-09-04 378.00 -- -- 372.00 -1.59% -- 372.00 -1.59% -- 详细
事件8月 28日,公司公告 2023年半年度报告,23H1实现营收 10.04亿元,同比+91.83%;归母净利润 1.25亿元,同比+15.22%;扣非归母净利润 0.65亿元,同比+32.65%。 投资要点业绩稳健增长,剔除股份支付费用后归母利润同比+129.15%。 23H1公司实现营收 10.04亿元,同比+91.83%,其中 PECVD 设备实现销售收入 9.08亿元,同比+94.35%,主要系国内晶圆厂持续扩产带来的需求增加,公司在手订单充足,产品线不断完善,新产品在客户端验证通过,持续获得更多客户的认可。公司新产品及新工艺经下游用户陆续验证导入,销售收入放量增长。23H1公司实现归母净利润 1.25亿元,同比+15.22%;扣非归母净利润 0.65亿元,同比+32.65%,其低于营业收入增长率,主要原因为本期确认股份支付费用 1.26亿元,剔除股份支付费用影响后,归母净利润同比+129.15%、扣非归母净利润同比+283.68%。 在手订单充沛,采购备货等减弱经营活动现金流量净额。截至23H1末,公司的存货/合同负债分别为 32.88/15.06亿元,同比+110.37%/38.59%,侧面反映公司在手订单充足,其中存货同比超翻倍增长主要系公司销售需求增长带来的原材料、在产品以及发出商品的增加。23H1公司经营活动产生的现金流量净额为-7.43亿元,同比-384.24%,主要原因为公司业务增长采购备货、发出商品增加,购买商品、接受劳务支付的现金增加。 薄膜工艺应用覆盖面不断拓宽,新产品及新工艺持续推进。 23H1公司的研发投入达 2.10亿元,同比+78.77%,研发投入占比达 20.93%。公司通过高强度研发投入,保持细分领域内产品技术领先,同时不断丰富设备产品品类,拓宽薄膜工艺应用覆盖面,在现有产品产业化应用、新产品及新工艺研发验证等方面均取得了突破性进展。报告期内,公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异,平均机台稳定运行时间(Uptime)超过 90%(达到国际同类设备水平)。公司薄膜系列产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大,截至本报告期末,公司薄膜沉积设备在客户端产线生产产品的累计流片量已突破 1.2亿片,产品研发及产业化情况如下: 1)PECVD 系列产品方面,PECVD 产品:截至本报告期末,公司PECVD 通用介质薄膜材料(包括 SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG 等)和先进介质薄膜材料(包括 ACHM、LoKⅠ、LoKⅡ、ADCⅠ、HTN、a-Si 等)均已实现产业化应用;公司推出的PECVD(NF-300H)型号设备已实现产业化应用,可以沉积 Thick TEOS 等介质材料薄膜。报告期内,公司持续获得客户订单,并出货至客户端进行验证,验证进展顺利。UV Cure 产品:报告期内,公司 UV Cure(HTN、LokⅡ工艺)持续获得客户订单,UV Cure(LokⅡ工艺)设备实现首台产业化应用,截至本报告期末,公司 UV Cure(HTN、LokⅡ工艺)均已实现产业化应用。 2)ALD 系列产品方面,PE-ALD 产品:报告期内,公司 PE-ALD(PF-300T Astra)设备在客户端验证进展顺利,获得了原有客户及新客户订单,并出货至不同客户进行产业化验证;PE-ALD(NF-300H Astra)设备实现首台产业化应用,取得了突破性进展,该设备主要应用于沉积较厚的 PE-ALD 薄膜,具有高产能和低成本的优势。Thermal-ALD 产品:报告期内,公司 Thermal-ALD(PF-300TAltair、TS-300Altair)持续获得原有客户及新客户订单,并出货至不同客户端进行产业化验证,验证进展顺利,可以沉积 Al2O3等多种金属化合物薄膜材料。 3)SACVD 系列产品方面,报告期内,公司 SACVD 产品持续获得客户订单及产业化验证;截至本报告期末,公司可实现 SA TEOS、BPSG、SAF 薄膜工艺沉积的 SACVD 设备均通过客户验证,在国内集成电路制造产线的量产规模逐步提升。 4)HDPCVD 系列产品方面,报告期内,公司 HDPCVD 设备已实现首台产业化应用,并持续获得客户订单,出货至不同应用领域的不同客户端进行产业化验证,可以沉积 SiO2、FSG、PSG 等介质材料薄膜。 5)混合键合系列产品方面,报告期内,公司研制的晶圆对晶圆键合产品 Dione 300实现首台产业化应用并获得了重复订单,取得了突破性进展;公司芯片对晶圆键合表面预处理产品 Pollux已出货至客户端进行产业化验证,验证进展顺利。 投资建议我们预计公司 2023/2024/2025年分别实现收入 29/43/55亿元,实现归母净利润分别为 5.3/8.4/11.0亿元,当前股价对应2023-2025年 PE 分别为 83倍、52倍、40倍,维持“买入”评级。 风险提示宏观环境风险;行业风险;核心竞争力风险;晶圆厂扩产不及预期的风险;供应链安全风险;市场竞争风险;政府补助政策变动风险;税收优惠风险。
拓荆科技 电子元器件行业 2023-08-31 339.02 -- -- 400.00 17.99% -- 400.00 17.99% -- 详细
事件概述:8月 28日,拓荆科技发布 2023年中报,公司 2023年 H1实现营收10.04亿元,同比增长 91.83%;实现归母净利润 1.25亿元,同比增长 15.22%; 实现扣非净利润 0.65亿元,同比增长 32.65%。 激励费用较高短期压制盈利表现。今年来公司实现了较高速的收入释放,但费用的大幅上升短期压制了公司利润表现。公司 2023年 Q2单季度实现营收6.01亿元,同比增长 44.66%,环比增长 49.44%;实现归母净利润 0.71亿元,同比下滑 40.96%,环比增长 31.89%;实现扣非净利润 0.46亿元,同比下滑35.69%,环比增长131.87%。净利润的同比下滑主要因为公司上半年计提了1.26亿元股权激励费用,加回后上半年将有归母净利润/扣非净利润 2.51/1.91亿元。 毛利率端,2023年 Q2毛利率 49.19%,环比稳定,同比提升 2.6pct。 从收入结构上看,2023年 H1公司实现 PECVD 收入 9.08亿元,同比增长94.35%,其他产品收入 0.96亿元。 资产负债端,2023年 Q2存货 32.88亿元,环比增长 5.7亿元。较年初增加发出商品 1.75亿元,原材料 7.3亿元。 工艺覆盖能力持续提升,多种新品实现首台产业化。公司在薄膜领域持续深耕,除了传统业务 PECVD 设备持续成长,拓展工艺覆盖率以外,多种新品亦通过验证,实现首台产业化应用,产品线逐渐壮大。 1)PECVD:公司不断扩大通用膜及先进膜工艺的应用覆盖面,多种先进膜(包括 ACHM、LoKⅠ、LoKⅡ等)实现产业化应用。 2)ALD:PE-ALD/Thermal-ALD 均验证顺利,均取得原有客户新订单,并出货更多客户验证。 3)HDPCVD:成功实现首台产业化应用,并持续获得客户订单,出货至不同应用领域的不同客户端进行产业化验证。 4)Hybrid Bonding:晶圆对晶圆(WOW)的 HB 设备实现首台产业化应用,并获得重复订单;芯片对晶圆(COW)键合表面预处理产品已出货至客户端进行产业化验证。 投资建议:公司作为国内薄膜设备龙头,展现了较强的国产替代能力和收入增速,我们预计公司 2023-2025年营收 28.80/41.90/56.46亿元;考虑到激励费用的影响,我们调整 2023-2025年归母净利润预测至 5.01/8.05/11.65亿元,对应现价 PE 分别为 82/51/35倍。我们看好公司在半导体薄膜设备领域的领先地位,维持“推荐”评级。 风险提示:产品验证不及预期;下游行业周期性波动;市场竞争加剧。
拓荆科技 电子元器件行业 2023-08-31 339.02 -- -- 400.00 17.99% -- 400.00 17.99% -- 详细
2023年8月28日,公司发布2023年半年度业绩报告。2023年H1公司营业收入为10.04亿元,同比增长91.83%,归母净利润为1.25亿元,同比增长15.22%;毛利率为49.43%,净利率为12.50%。 高强度研发投入,保持细分领域内产品技术持续领先。公司通过高强度研发投入,保持细分领域内产品技术领先,同时,不断丰富设备产品品类,拓宽薄膜工艺应用覆盖面。2023H1,公司研发投入达2.10亿元,同比增长78.77%,研发投入占比达20.93%;公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异,平均机台稳定运行时间超过90%(达到国际同类设备水平),薄膜沉积设备在客户端产线生产产品累计流片量已突破1.2亿片。 截至2023H1各系列产品研发及产业化进展情况:(1)PECVD系列产品:①PECVD产品:在PECVD(PF-300T、PF-300TeX)产品方面,公司不断扩大通用介质薄膜材料工艺及先进介质薄膜材料工艺的应用覆盖面,并持续获得客户订单、通过客户产业化验证、扩大量产规模。NF-300H型号设备已实现产业化应用,可以沉积ThickTEOS等介质材料薄膜。②UVCure产品:UVCure(HTN、LokⅡ工艺)持续获得客户订单,UVCure(LokⅡ工艺)设备实现首台产业化应用;(2)ALD系列产品:①PE-ALD产品:PF-300TAstra)设备在客户端验证进展顺利,获得原有客户及新客户订单,并出货至不同客户进行产业化验证;NF-300HAstra设备实现首台产业化应用,取得了突破性进展。②Thermal-ALD产品:PF-300TAltair、TS-300Altair持续获得原有客户及新客户订单,并出货至不同客户端进行产业化验证,验证进展顺利。(3)SACVD系列产品:公司可实现SATEOS、BPSG、SAF薄膜工艺沉积的SACVD设备均通过客户验证,在国内集成电路制造产线的量产规模逐步提升。(4)HDPCVD系列产品:已实现首台产业化应用,并持续获得客户订单,出货至不同应用。(5)混合键合系列产品:公司研制的晶圆对晶圆键合产品Dione300实现首台产业化应用,并获得了重复订单,取得了突破性进展;公司芯片对晶圆键合表面预处理产品Pollux已出货至客户端进行产业化验证,验证进展顺利。 新设全资子公司及向全资子公司增资,进一步完善业务发展布局。2023H1,公司设立全资子公司拓荆创益,从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务,有利于促进公司业务的聚焦发展及公司战略规划实施;设立全资子公司岩泉科技,围绕公司主营业务开展相关的对外投资活动,面向与公司具有产业协同性、有发展潜力相关业务实体开展业务,为公司积蓄新增长点,提升公司综合实力;根据超募项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”的施进度向拓荆上海增资;向芯密科技/无锡金源增资,有利于增强公司上游供应链稳定性投资建议:我们维持盈利预测,预计2023年至2025年营业收入分别为28.19/39.24/53.07亿元,增速分别为65.3%/39.2%/35.3%;归母净利润分别为5.61/8.28/10.90亿元,增速分别为52.3%/47.5%/31.6%;对应PE分别78.1/52.9/40.2。考虑到拓荆科技PECVD薄膜材料设备全系列覆盖,且晶圆对晶圆键合等产品产业化进展顺利,叠加美国政策限制使国产设备导入迎来历史机遇,维持增持-A建议。 风险提示:半导体行业景气度不及预期;国产替代进程放缓;公司产品研发进度不及预期
拓荆科技 电子元器件行业 2023-05-01 400.17 506.62 62.79% 430.00 7.37%
461.62 15.36%
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事件:公司发布2023年一季报,实现营收4.02亿元,同比增长274.24%;实现归母净利润0.54亿元,同比增长552.25%。 收入利润大幅增长,合同负债环比提升。2023Q1受益于国内半导体设备需求增长与国产替代的持续推进,公司收入利润同比大幅增长。2022年公司在手销售订单约46.02亿元,其中新签订单43.62亿元,较2021年同比增长95.36%。 此外,2023Q1公司合同负债达到16.33亿元,环比提升16.89%,公司新增订单充裕,合同负债持续提升,保障公司未来业绩高成长。盈利能力方面,一季度公司毛利率达到49.78%,同比提升2.34个百分点,净利率达到12.99%。费用率方面,2023一季度公司销售/管理/研发/财务费用率份别为13.67%/8.26%21.38%/-3.05%。 薄膜沉积市场空间广阔,公司PECVD技术实力领先。根据MaximizeMarketResearch数据,2021年全球薄膜沉积设备市场达到约190亿美元,2025年市场规模有望达340亿美元,CAGR有望达到15.7%,我们预计在下游3DNAND、先进逻辑制程等工艺需求带动下,全球薄膜沉积设备市场将保持相对较高增速。 公司作为国内领先的PECVD设备厂商,产品已可适配国内先进的28/14nm逻辑芯片,19/17nmDRAM芯片和64/128层3DNANDFLASH产线,兼容SiO2、SiN、SiON、BPSG、PSG、TEOS、LokI、LokII等多种反应材料。PECVD在薄膜沉积设备中占比达33%,未来公司将伴随下游国产化率提升持续增长。 设备产品线持续丰富拓宽,覆盖国内主流客户。公司立足薄膜沉积设备领域,除PECVD外,持续拓展ALD、SACVD以及HDCVD等为主的系列产品,设备工艺可覆盖国内主要晶圆厂设备需求,主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、重庆万国等大陆企业。公司PE-ALD设备2022实现收入3258.67万元,Thermal-ALD已完成开发至客户端验证,SACVD持续拓展应用领域及工艺覆盖度,2022年该系列产品收入同比增长117.39%。 盈利预测与投资建议:公司作为国产薄膜沉积领域行业领先者,具备深厚的技术储备,业务成长性较强。基于以上考虑,我们公司给予2024年16倍PS,对应市值638.9亿元,对应目标价507.0元,首次覆盖给予“买入”评级。 风险提示:下游晶圆厂产能扩张不及预期导致需求衰退风险;新产品研发进度不及预期风险;地缘政治冲突加剧及国际关系恶化风险等。
王华君 4 4
拓荆科技 电子元器件行业 2023-04-21 450.72 -- -- 453.60 0.64%
462.00 2.50%
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事件:公司发布2022年年度报告。2022年实现营业收入17.1亿元,同比增长125%,归母净利润3.69亿元,同比增长438%;扣非归母净利润1.78亿元,同比扭亏为盈。同时,公司发布2023年一季度业绩,23Q1实现营业收入4.02亿元,同比增长274%,实现归母净利润0.54亿元,同比增长552%。 全年收入利润高增长,22Q4/23Q1单季度业绩同比高速增长2022年实现营业收入17.1亿元,同比增长125%,归母净利润3.69亿元,同比增长438%;扣非归母净利润1.78亿元,同比扭亏为盈。期间费用率由2021年54%降低到2022年的 37%,同比降低17pct,盈利水平大幅提升。 2022年单Q4收入7.14亿元,同比+86%,环比+53%;归母净利润1.31亿元,同比+1145%,环比+1%;毛利率50.6%,同比+8.3pct,环比+0.5pct;净利率18.1%,同比+15.1pct,环比-9.2pct。 2023年Q1收入4.02亿元,同比+274%,实现归母净利润0.54亿元,同比+552%,实现扣非净利润0.20亿元,同比+191%。 新签订单&合同负债高增长,业绩高增可期截至22年末,公司在手订单46.02亿元(不含Demo 订单),2022年签订销售订单43.62亿元(不含Demo 订单),新增订单与同比增加95%。截至22年末公司合同负债14亿元,相比22Q3末增加4.74亿元。新签订单、合同负债高增长,保障后续业绩增长。 薄膜设备产品线不断延展,新产品验证顺利公司薄膜设备应用不断拓展,并扩展混合键合系列产品。1)PECVD 产销高速增长,收入15.6亿元,同比增长131%;2)ALD 中PEALD 设备已实现产业化应用,收入0.33亿元,同比增长14%,TALD 设备已完成开发,发货至客户端验证;3)SACVD 系列产品持续拓展应用领域,SA TEOS、BPSG、SAF 薄膜工艺设备取得客户验收,收入0.89亿元,同比增长117%,SACVD 系列产品不断扩大应用工艺覆盖度,提升市场占有率。4)HDPCVD 设备已取得订单,可沉积SiO2、FSG、PSG 等介质材料。此外,公司积极拓展混合键合设备,晶圆对晶圆键合设备、芯片对晶圆键合表面预处理设备均已发货至客户验证。 自主可控逻辑继续强化,薄膜沉积设备龙头迎来加速成长公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备、SACVD 设备、HDPCVD 设备 厂商,也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。目前薄膜系列产品在客户产线实现量产的设备性能指标已达到国际同类设备先进水平。目前全球薄膜沉积设备国际巨头垄断,根据Gartner2021年数据, CVD 设备由AMAT(美)、ASMI(荷)、LAM(美)、TEL(日)垄断, CR4占比80%;PVD 设备AMAT 市占率86%;ALD 设备ASMI、TEL、LAM 合计市占率83%。薄膜沉积是外部制裁重点环节,作为国内沉积设备龙头,充分受益于国产化率提升。 盈利预测与估值考虑到PECVD 赛道空间广阔/国产化率较低/竞争格局良好,公司作为龙头企业获取订单有望持续超预期,加之公司在手订单饱满,预计公司2023-2025年实现营收29.03、38.85、49.01亿元,归母净利润5.42、9.21、12.01亿元,对应23-25年PE 分别为103、60、46倍,维持“买入”评级。 风险提示资本开支不及预期,国产化不及预期,公司新产品验证进度不及预期风险。
拓荆科技 2023-04-20 430.00 -- -- 482.00 12.09%
482.00 12.09%
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事件:公司公告2022年实现营收17.06亿元,同比+125%;归母净利润3.69亿元,同比+438%;扣非归母净利润1.78亿元,同比扭亏。 2022年业绩高增长。22Q4营收为7.14亿元,同比+86%;Q4归母净利润为1.31亿元,同比大幅增长;Q4毛利率为50.58%,同环比继续增长。公司2022年新签订单为43.62亿元(不含Demo订单),同比+95%,而在手订单为46.02亿元。 截至2022年末,公司合同负债为13.97亿元,存货为22.97亿元,环比均继续增长。公司表示,库存数量中80%以上为已取得正式销售订单的发出商品。公司饱满的订单规模为后续业绩的增长提供了有力保障。 薄膜沉积龙头地位稳固。2022年,公司PECVD实现销售收入15.63亿元,同比+131%;销售98台,销售单价提升至1595万元。截至2022年末,公司设备在客户端产线生产产品的累计流片量已突破1亿片。2022年,公司设备在客户端产线平均机台稳定运行时间超过90%,达到国际同类设备水平。公司PECVD设备在以下几个领域继续突破:1)多种不同工艺指标的先进薄膜材料(包括LoKⅠ、ACHM、ADCⅠ、HTN等)和设备均通过客户验证,进入量产产线。2)公司新开发低温薄膜沉积设备,可以沉积低温的SiN、TEOS等介质薄膜材料,并在先进封装领域实现量产应用。3)公司首台NF-300H设备实现首台产业化应用,并取得客户复购订单,可以沉积ThickTEOS等介质材料薄膜。 多种沉积设备齐头并进。2022年,公司ALD设备销售1台,实现收入3259万元;SACVD设备销售5台,实现收入8948万元。公司PE-ALD设备已实现产业化应用,而Thermal-ALD设备已完成开发,已发货至客户端验证。公司SACVD系列产品持续拓展应用领域,SATEOS、BPSG、SAF薄膜工艺设备在芯片制造领域均取得客户验收。2022年,公司ALD、SACVD产量分别为5、10台,预计将带来23年该块设备收入的增长。此外,公司的HDPCVD设备已通过产线验证,取得不同客户订单,可以沉积沉积SiO2、FSG、PSG等介质材料薄膜。 新推出混合键合系列产品,布局晶圆级三维集成应用。公司新推出混合键合设备,可以提供键合面最小为1um间距的金属导线连接点以实现芯片或晶圆的堆叠,使芯片间的通信速度提升至业界先进水平,并能提高整体芯片性能。公司首台晶圆对晶圆键合产品Dione300已出货至客户端进行验证,并取得了突破性进展。此外,公司完成芯片对晶圆键合表面预处理产品Pollux的研发,已出货至客户端进行验证。三维集成领域设备是三维集成芯片、Chiplet等芯片先进架构设计的技术基础,公司的混合键合设备有望受益于芯片3D化发展。 投资建议:预计公司2023-2025年营收28.85/40.85/53.49亿元,对应PS分别为20/14/11倍;归母净利润分别为6.03/8.47/11.46亿元,对应PE分别为94/67/49倍。公司作为半导体设备细分领域龙头,且产品研发壁垒高,具有很好成长性,维持“买入”评级。 风险提示:公司新产品研发进度不及预期、下游晶圆厂扩产放慢、竞争加剧风险。
拓荆科技 2023-04-20 430.00 -- -- 482.00 12.09%
482.00 12.09%
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22年营收同比增长125%,符合市场预期。22年营收17.06亿元,同比增长125%,归母净利润3.69亿元,同比增长438%;毛利率49.27%,同比提升5.26pct,净利率21.35%,同比提升12.52pct,营收同比增长系PECVD设备销量上升,净利率同比提升主要归因于营收增长推动期间费用率同比下降17.00pct,其中研发费用率同比下降15.83pct。 22Q4单季度营收7.14亿元,环比增长52%,归母净利润1.31亿元,环比增长1%;毛利率50.58%,环比提升0.51pct,净利率18.12%。 拳头产品PECVD产销两旺,22年销量同比增长96%,ASP同比提升18%。 公司第一大业务为PECVD设备,22年PECVD设备营收15.63亿元,同比增长131%,毛利率49.41%,同比提升6.78pct。22年PECVD设备销量98台,同比增长96%,ASP1595万元,同比提升18%,显现PF-300T量价齐升。 第二大业务为SACVD及ALD设备,22年SACVD设备营收0.89亿元,同比增长117%,毛利率46.82%,同比下降16.17pct,ALD设备营收0.33亿元,同比增长14%,毛利率46.04%,同比提升1.85pct。报告期内公司PE-ALD(PF-300TAstra)完成产业化验证,PE-ALD(NF-300HAstra)在客户端验证进展顺利,Thermal-ALD已出货至多个客户端进行验证。公司持续拓展PE-ALD薄膜种类及工艺应用,并获得多个客户的订单。 在手订单46.02亿元,奠定后续业绩成长。公司薄膜沉积设备已获得逻辑/存储芯片等领域现有客户重复订单及新客户订单。截至22年末,公司在手销售订单金额46.02亿元(不含Demo订单),2022年签订销售订单金额43.62亿元(不含Demo订单),新增订单同比增长95%。截至2022年末,公司PECVD设备库存量141台,ALD6台,SAVCD13台,HDPCVD1台,库存数量中80%以上为已取得正式销售订单的发出产品,为后续业绩增长提供有力保障。 国内薄膜沉积设备领军企业,维持“增持”评级。SEMI预计23年中国半导体设备市场规模将同比增长10%至3032亿元。公司作为设备国产替代进程中的主力供应商,有望延续成长,预计2023~2025年归母净利润分别为5.06/6.56/8.12亿元,对应23/24/25年PE为108/83/67倍,维持“增持”评级。 风险提示:晶圆厂扩产不及预期;供应链安全风险;市场竞争风险;核心竞争力风险等。
拓荆科技 2023-04-20 430.00 -- -- 482.00 12.09%
482.00 12.09%
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事件概述:4 月17 日,拓荆科技发布2022 年年报,公司2022 年实现营收17.06亿元,同比增长125.02%;实现归母净利润3.69 亿元,同比增长438.09%。公司2022 年Q4 实现营收7.14 亿元,同比增长85.92%,环比增长52.47%;实现归母净利润1.31 亿元,同比增长1145.16%,环比增长1.24%。 收入高增,订单饱满。公司2022 年Q4 单季度实现营收7.14 亿元,同比增长85.92%,环比增长52.47%,全年收入达17.06 亿元,同比增长125.02%。 其中,PECVD 设备收入15.63 亿元,同比增长131.44%;ALD 设备收入0.33亿元,同比增长13.85%;SACVD 设备收入0.89 亿元,同比增长117.39%。核心业务PECVD 设备保持了领先优势和可观的收入释放速度。 盈利方面,公司2022 年Q4 单季度毛利率高达50.58%,环比提升0.5 pct,同比提升8.3 pct,全年毛利率达49.27%,同比提升5.3 pct。毛利率的提高主要得益于核心业务PECVD 的盈利提升,2022 年全年PECVD 业务毛利率达49.41%,同比提升6.8 pct。2022 年Q4 单季度公司实现归母净利润1.31 亿元,同比增长1145.16%,环比增长1.24%,净利率达18.12%。 订单方面,2022 年公司新签订单金额43.62 亿元,同比增长95.36%,年底在手订单金额达46.02 亿元(不含Demo 订单),为后续业绩增长提供有力保障。 客户导入顺利推进,产品线稳步拓展。除了已经形成销售收入的PECVD、ALD、SACVD 设备以外,公司2022 年相继推出了HDPCVD 和Hybrid Bonding设备,各产品的验证导入均在有序推进。 1)PECVD:工艺覆盖率持续提升,先进膜LoK I、ACHM、ADC I、HTN 等工艺设备已通过客户验证,进入量产线,配套HTN 的UV Cure 设备亦实现销售。 2)ALD:PEALD 实现销售并获得不同客户订单,新推出的ThermalALD 设备已在客户验证阶段,用于Al2O3 等金属化合物沉积。 3)SACVD:国内稀缺供应商,全年实现5 台销售。 4)HDPCVD:已出货客户端,并于2023 年来通过验证实现销售。 5)Hybrid Bonding:推出晶圆混合键合和表面预处理的系列设备,WOW 和COW的键合设备均已出货客户端进行验证。 投资建议:公司作为国内薄膜设备龙头,展现了超预期的国产替代能力和盈利增长,我们预计公司2023-2024 年营收25.40/36.50/48.86 亿元,对应当前股价的PS 分别为22/15/11 倍;归母净利润4.68/7.09/10.14 亿元,对应现价PE 分别为117/77/54 倍。我们看好公司在半导体薄膜设备领域的领先地位,维持“推荐”评级。 风险提示:产品验证不及预期;下游行业周期性波动;市场竞争加剧。
拓荆科技 2023-03-01 260.99 -- -- 324.88 24.48%
490.00 87.75%
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事件:公司发布2022年业绩快报。 订单饱满&快速交付, 2022年收入端实现翻倍以上增长2022年公司实现营业收入 17.06亿元,同比+125.02%,落于业绩预告偏上限(16.50-17.20亿元),其中 Q4营业收入为 7.14亿元,同比+85.92%,延续高速增长。 2022年公司收入端大幅提升,主要系公司在手订单充足,设备加速交付。分业务来看,公司在 PECVD 设备领域行业龙头地位稳固,我们判断 PECVD 业务实现高速增长,仍是公司收入增长主要来源(2022Q1-Q3公司 PECVD 收入占比约 90%)。此外, ALD&SACVD 加速验证,逐步进入放量阶段,同样为公司贡献一定的收入体量。截至 2022Q3末,公司合同负债和存货分别达到 9.22和 20.90亿元,分别同比增长 107%和 114%。考虑到合同负债基本为预收款项,我们判断公司在手订单实现大幅提升,在手订单充足, 支撑 2023年收入端延续高速增长。 产品结构优化&规模效应显现,盈利水平大幅提升2022年公司实现归母净利润 3.69亿元,同比+438.09%,位于业绩预告中位区间(3.30-4.00亿元),其中 Q4为 1.31亿元,同比+1145%。 2022年公司扣非归母净利润为 1.78亿元,同比增加 2.60亿元,同样位于业绩预告中位区间(1.60-1.90亿元),其中 Q4为 0.66亿元,同比增加 1.25亿元。 2022年公司归母净利率和扣非归母净利率分别为 21.61%和 10.44%,分别同比+12.57pct 和+21.26pct。 分季度来看, 2022Q4公司归母净利率和扣非归母净利率分别为 18.35%和 9.29%,分别同比+15.61pct 和+24.64pct,盈利水平大幅提升。究其原因,我们判断这一方面系产品结构不断优化,毛利率有所提升,另一方面系规模效应下期间费用率有明显下降。 PECVD 具备持续扩张条件,产品线不断丰富打开成长空间作为薄膜沉积设备国产领军者,公司在稳固 PECVD 市场竞争力的同时, SACVD&ALD 也持续取得产业化突破,成长空间不断打开。 1)PECVD: 在国内市占率依然较低, 公司已全面覆盖逻辑、 DRAM 存储、FLASH 闪存各技术节点通用介质薄膜,并在 14nm 及 10nm 以下制程积极配合客户产业验证,随着客户验证顺利推进,有望延续高速增长; 2)SACVD: 适用于 45-10nm 沟槽填充,先进制程下渗透率存在提升趋势,公司产品体系不断完善, 2020年以来验证机台快速增加,有望进入放量阶段; 3)ALD: 膜厚精准可控&台阶覆盖率极高,技术优势突出,公司率先实现PE-ALD 产业化,同时布局 Thermal-ALD, IPO 募投推进产业化进程。 盈利预测与投资评级: 基于业绩快报, 我们调整 2022-2024年公司营业收入预测分别为 17.06、 24.17和 32.36亿元(原值 16.90、 23.95和 32.06亿元),当前市值对应动态 PS 为 19、 14和 10倍,维持“买入”评级。 风险提示: 晶圆厂资本开支下滑、美国制裁风险等。
拓荆科技 2023-02-15 261.38 -- -- 312.99 19.75%
490.00 87.47%
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事件描述近期,公司发布 2022年年度业绩预告:预计 2022年全年营业收入区间为 16.50-17.20亿元,同比增长 117.69%到 126.92%;归母净利润区间为 3.30至 4.00亿元,同比增长 381.85%到 484.06%;扣非归母净利润区间为 1.60至 1.90亿元,与上年同期相比实现扭亏为盈,同比增长 2.42至 2.72亿元。 投资要点盈利能力大幅提升,业绩增长超预期。根据公司业绩预告,2022年营业收入中值为 16.85亿元,同比增长 122.31%;归母净利润中值为 3.65亿元,同比增长 432.95%;扣非归母净利润中值 1.75亿元,实现扭亏为盈,同比增长 2.57亿元。公司 2022年业绩实现较大幅度增长,主要原因为:受益于国内半导体设备需求增长,以及公司产品结构不断优化,竞争力持续增强,进一步拓展客户群体,本年销售订单大幅增加,营业收入维持高增长趋势。此外,在公司持续加大研发投入的同时,期间费用率下降,规模效应驱动盈利水平提高。 聚焦半导体薄膜沉积设备,市占率持续提升。公司聚焦半导体薄膜沉积设备,产品主要包括 PECVD、ALD 和 SACVD 三大系列。PECVD 设备为公司的核心产品,已全面覆盖逻辑电路、DRAM 存储、FLASH 闪存集成电路制造各技术节点产线多种通用介质材料薄膜沉积工序,并成功研发 LokⅠ、LokⅡ、ACHM、ADCⅠ等先进介质材料工艺,薄膜沉积工序的覆盖度持续提升。ALD 和 SACVD 设备方面,公司 SACVD 和 ALD产品已推向市场实现产业化,后续市占率有望进一步提升。 成立全资子公司,布局高端半导体薄膜沉积设备。2023年 1月21日,公司公告,拟以货币形式和/或非货币财产作价方式合计出资5亿元设立全资子公司拓荆科技(沈阳)有限公司。子公司将从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务,将有利于促进公司发展战略的实施,完善和提升公司业务发展布局,增强公司盈利能力,进一步提升公司的综合竞争力。 投资建议预计公司 2022-2024年 EPS 分别为 2.89、3.81、4.79元,对应PE 分别为 91倍、69倍、55倍,首次覆盖,给予“买入”评级。 风险提示下游客户扩产进度不及预期,产品推广不及预期,国际贸易环境变化。
王华君 4 4
拓荆科技 2023-02-09 237.73 -- -- 289.80 21.90%
490.00 106.12%
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投资要点 事件:公司发布 2022年业绩预增公告。预计 2022年实现营收 16.5-17.2亿元,同比增长 117.69%-126.92%;预计实现归母净利润 3.3-4.0亿元,同比增长381.85%-484.06%;扣非归母净利润 1.6-1.9亿元,同比扭亏为盈。 业绩预告超预期,规模效应下盈利水平提升。2022年公司营收中枢 16.85亿元,同比+122%,归母净利润中枢 3.65亿元,同比+433%,扣非归母净利润中枢 1.75亿元,同比扭亏为盈(2021为-0.82亿元)。从单季度来看,2022Q4实现营收6.58-7.28亿元,同比增长 71%-90%,归母净利润 0.93-1.63亿元,同比增长779%-1444%,扣非归母净利润 0.48-0.78亿元,同比扭亏为盈(2021Q4为-0.59亿元)。受益于下游行业需求增长,公司订单大幅增加,营收维持高增长,规模效应下盈利水平提升,利润增速高于收入增速。 股权激励落地,高业绩目标彰显公司发展信心。公司 2022年限制性股票激励计划落地,拟一次性授予 280万限制性股票,占股本总额 2.21%,授予价格 105元/股。本次激励范围广泛,人数达 513人。行权解锁条件较高,2022-2025年营收目标分别为 15.16/22.74/30.32/37.90亿元,相较 2021年营收增长 100%/200%/300%/400%,净利润目标分别为 2.53/4.04/5.48/6.85亿元,相较 2021年利润增长270%/490%/700%/900%,营收利润高增速目标,充分体现公司对于未来市场拓展及利润提升的信心。 新设全资子公司,布局高端半导体薄膜沉积设备。1月 21日公司公告,拟出资 5亿元新设全资子公司拓荆科技(沈阳)有限公司,主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动,从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、 销售与技术服务。公司原总经理田晓明、原副总经理张孝勇辞去公司原职务,分别担任新设子公司总经理及副总经理。 半导体设备国产化进程提速,长期市场空间打开。美国对华半导体管制下,我国半导体国产设备验证加速,预计国产化率持续提升。公司作为国内半导体PECVD 龙头,充分受益于国产设备替代。公司持续拓展 PECVD、ALD、SACVD 三大系列产品工艺应用领域,获得逻辑芯片、存储芯片等领域现有客户重复订单和新客户订单。公司产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大,产品高稳定性逐步验证,市场份额有望持续提升。 盈利预测及估值:根据公司业绩预告,我们上修公司盈利预测。预计公司 2022-2024年营业收入分别为 16.56、23.92、33.19亿元,同比增长 118%、44%、39%;实现归母净利润 3.65、4.85、5.95亿元,同比增长 432%、33%、23%,维持公司“买入”评级。 风险提示:晶圆厂扩产进展不及预期风险;技术研发不及预期风险;产品验收周期较长的风险;市场竞争风险。
拓荆科技 2023-02-06 248.99 -- -- 289.00 16.07%
490.00 96.80%
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事件概述:1 月29 日,拓荆科技发布2022 年年度业绩预告,公司预计2022 年实现营收入16.50~17.20 亿元,同比增长117.69~126.92%;实现归母净利润3.30~4.00 亿元,同比增长381.85~484.06%。 2022 全年收入增速强劲,盈利改善利润释放。公司预告2022 全年收入16.50~17.20 亿元,同比增长117.69~126.92%;实现归母净利润3.30~4.00亿元,同比增长381.85~484.06%,利润增速远高于收入增速,主要得益于公司毛利率持续提升,同时收入规模起量带来研发费用摊薄。2022 年前三季度公司毛利率达48.32%,较2021 年同期提升2.5 pct,前三季度公司研发费用2.21亿元,同比增长70.44%,但同期收入增速达165.19%,带来费用率摊薄。 4Q22 单季度业绩超预期增长。预告区间对应4Q22 单季度收入6.58~7.28亿元,同比增长71.31~89.53%,环比增长40.51~55.46%;对应4Q22 单季度归母净利润0.93~1.63 亿元, 同比增长779.12~1444.35% , 环比-28.49~25.61%,以区间中值计算,4Q22 单季度净利率为18.40%,但考虑到公司2022 年11 月进行了股权激励授予,预计将于2022 年产生2023.96 万元股权激励费用,排除此影响后4Q22 净利率将会更高。 国产替代穿越周期,股权激励彰显信心。2022H2 以来,下游需求走弱导致半导体周期下行,全球晶圆代工行业龙头台积电在4Q22 法说会上预计2023 年全球晶圆代工市场将下滑3%,同时宣布调降2023 年资本开支至320~360 亿美元,较2022 年同比持平至同比下滑12.5%。我们认为国产替代的加速推进将成为拓荆在2023 年的主要增长动力,有望助力公司穿越周期持续成长。公司亦在2022 年10 月宣布的股权激励草案中设置了较高的解锁条件:2022-2025 年收入较2021 年增长不低于100/200/300/400% , 对应收入分别为15.16/22.74/30.32/37.90 亿元,净利润增长目标分别为270/490/700/900%,对应净利润分别为2.53/4.04/5.48/6.85 亿元,彰显公司对未来长期成长的信心。 而利润增长目标远高于收入增长目标,亦体现公司对未来业务成熟,盈利能力持续提升的预期。 投资建议:考虑到公司展现了超预期的国产替代能力和需求韧性,我们上调公司2022-2024 年营收预测至16.75/25.08/34.25 亿元,对应当前股价的PS分别为20/13/10 倍;调整归母净利润预测至3.75/4.36/6.29 亿元,对应现价PE 分别为87/75/52 倍。我们看好公司在半导体薄膜设备领域的领先地位,维持“推荐”评级。 风险提示:产品验证不及预期;下游行业周期性波动;市场竞争加剧。
拓荆科技 2023-01-31 261.30 -- -- 289.00 10.60%
490.00 87.52%
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事件:公司公告 2022年预计实现营收 16.5~17.2亿元,归母净利润 3.3~4.0亿元,扣非归母净利润 1.6~1.9亿元。 2022年业绩高增长。公司 2022年营收和归母净利润好于 Wind 一致预期,主要受益于国内半导体行业良好的发展态势,国内半导体行业设备需求增加,同时公司继续加大研发投入,产品竞争力持续增强,进一步拓展客户群体。公司营收扩大的规模效应驱动盈利水平提升,归母利润增速明显快于营收增速。公司 22Q4营收中值预计为 6.94亿元,同比+81%,继续保持高速增长;22Q4归母净利润中值预计为 1.28亿元。 公司成立全资子公司以布局高端半导体薄膜沉积设备。公司近日公告拟出资 5亿元设立全资子公司拓荆科技(沈阳)有限公司,从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。同日,公司公告公司总经理田晓明、副总经理张孝勇分别辞去公司职务,并分别将担任拓荆科技(沈阳)有限公司总经理和副总经理职务。预计该全资子公司的成立以及公司人员调整将完善和提升公司业务发展布局,增强公司盈利能力,进一步提升公司的综合竞争力。 公司新拓展 HDPCVD 以及沉积配套设备。除了现有设备产品外,公司还开发了高密度等离子增强化学气相沉积(HDPCVD)设备和紫外线固化处理(UV Cure)设备等新产品。公司的两款 HDPCVD 设备取得了客户订单,其中 PF-300T(单站式)已出货至客户端进行产业化验证。公司 UV Cure 设备已完成设计开发,可以与PECVD 设备成套使用,为 PECVD Lok II、HTN 等薄膜沉积进行紫外线固化处理,已出货至客户端进行产业化验证,并取得了客户订单。 投资建议:根据业绩预增公告,我们调整盈利预测,预计公司 2022/2023/2024年营收 16.85/25.53/36.70亿元,对应 PS 分别为 19/13/9倍;归母净利润分别为3.59/4.24/6.97亿元,对应 PE 分别为 91/77/47倍。公司作为半导体设备细分领域龙头,且产品研发壁垒高,具有很好成长性,维持“买入”评级。 风险提示:公司新产品研发进度不及预期、下游晶圆厂扩产放慢、竞争加剧、贸易摩擦政策加剧风险。
拓荆科技 2022-11-16 232.94 321.56 3.33% 275.00 18.06%
289.00 24.07%
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业绩增长态势强劲,研发持续高投入。公司前三季度实现营收 9.9亿元,同比增165%,实现归母净利润 2.4亿元,同比增 310%;其中第三季度实现营收 4.7亿元,同比增 79%,实现归母净利润 1.3亿元,同比增 66%。前三季度毛利率48.3%,维持较高水平。前三季度研发费用 2.2亿元,占营业收入比重达 22%,长期成长动能足。 PECVD 国内核心玩家,ALD、SACVD 设备持续开拓。公司 PECVD 产品基本可以实现 28nm 及以上制程的各种类薄膜工艺的覆盖,包括通用介质薄膜、先进介质薄膜和硬掩膜等。受益于客户扩产及设备国产化持续推进,前三季度公司 PECVD 设备实现收入 8.9亿元,较去年同期增长 175%。ALD 设备方面,公司 PEALD 设备可以覆盖逻辑芯片 55-14nm SADP、STI 工艺及存储领域,该产品已实现产业化应用;Thermal ALD 主要应用于 28nm 以下制程逻辑芯片,目前根据客户指标进行优化设计和验证测试。 SACVD 设备可以覆盖 12英寸 40/28nm 以及 8英寸 90nm 以上的逻辑芯片制造工艺需求。 股权激励彰显信心。 10月 1日,公司发布股权激励草案,拟向高级管理人员、核心技术人员等不超过 517人授予 280万股限制性股票,同时向高级管理人员 3人授予 40万份股票增值权,授予价格均为 105元。此外,本次股权激励设置了较高的解锁条件:2022-2025年收入较 2021年增长不低于 100/200/300/400%,对应收入分别为 15.16/22.74/30.32/37.90亿元,归母净利润(剔除本激励计划及后续激励计划产生的股份支付费用影响)较 2021年增长目标分别为 270/490/700/900% ,对应归母净利润分别为 2.53/4.04/5.48/6.85亿元,激励计划中利润端增速解锁条件较收入端更加严苛,彰显了公司对中长期盈利能力向好的信心 。 我们预测公司 2022-2024年每股收益分别为 2.38、3.48、5.20元(原 22-24年预期为 0.92、1.72、2.86元,主要由于公司业务推进进展、盈利能力改善超预期上调了收入、毛利率假设,下调了销售和研发费用率假设),由于薄膜沉积设备国产化空间广阔,采用 DCF 估值法,对应目标价为 321.83元,维持买入评级。 风险提示 半导体设备行业景气度不及预期;客户验证进展不及预期;零部件断供风险;市场份额提升不及预期;政府补助持续性风险。
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*说明:

1、“起评日”指研报发布后的第一个交易日;“起评价”指研报发布当日的开盘价;“最高价”指从起评日开始,评测期内的最高价。
2、以“起评价”为基准,20日内最高价涨幅超过10%,为短线评测成功;60日内最高价涨幅超过20%,为中线评测成功。详细规则>>
3、 1短线成功数排名 1中线成功数排名 1短线成功率排名 1中线成功率排名