证券代码：300331             证券简称：苏大维格             公告编号：2023-064


               苏州苏大维格科技集团股份有限公司

             关于对深圳证券交易所关注函的回复公告

      苏州苏大维格科技集团股份有限公司于 2023 年 9 月 15 日收到深圳证券交易

所创业板公司管理部下发的《关于对苏州苏大维格科技集团股份有限公司的关注

函》（创业板关注函〔2023〕第 288 号）。收到《关注函》后，公司就本次《关

注函》所涉问题逐项进行了认真核查及分析说明，现就《关注函》所涉问题具体

回复如下：
           释义项            指                      释义内容
公司、本公司、上市公司、苏
                             指   苏州苏大维格科技集团股份有限公司
大维格
                                  利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将
                                  设计好的微图形结构转移到覆有光刻胶等感光材料
光刻技术                     指
                                  的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造
                                  技术。
光刻设备                     指   光刻机、光刻系统
                                  光源发出的光束，经掩模版在光刻胶等感光材料上成
掩模光刻                     指   像。掩模光刻属于光刻技术的一种，其可进一步分为
                                  接近/接触式光刻以及投影式光刻。
                                  又称直写光刻，是计算机控制的高精度光束聚焦投影
无掩模光刻                   指   至涂覆有感光材料的基材表面上，无需掩模直接进行
                                  扫描曝光。
                                  利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或
电子束光刻                   指
                                  投影复印图形的光刻技术，属于直写光刻的一种。
                                  是计算机控制的高精度激光束根据设计的图形聚焦
激光直写光刻                 指   至涂覆有感光材料的基材表面上，无需掩模直接进行
                                  扫描光刻，属于直写光刻的一种。
                                  Laser Direct Imaging，缩写为 LDI，主要用于精密
激光直接成像、LDI            指
                                  电路板制造工艺中的曝光工序。
                                  又称掩膜版、光罩、光掩模、光掩膜等，是微电子制
                                  造过程中的图形转移工具或母版，用于芯片等下游电
掩模版                       指   子元器件行业批量复制生产。掩模版在生产中起到承
                                  上启下的关键作用，是产业链中不可或缺的重要环
                                  节。
nm                           指   纳米，是长度的度量单位，1nm=10-9m
μm                          指   微米，是长度的度量单位，1μm=1000nm

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    问题 1：结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露你公司所生产

光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情

况，并核实说明你公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术

参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。

    【公司回复】：
    一、不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露你公司所生产光刻设

备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况

    （一）光刻设备的技术路线及公司生产光刻机的类型、用途

    光刻技术是现代半导体、显示面板、光电子等领域的产品制造过程中不可或

缺的工艺流程之一。从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机（在运行过程中

均需要使用掩模板），包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机（如 DUV 和 EUV）

等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、

激光直接成像设备（LDI）等。半导体及平板显示制造普遍采用“直写光刻制作

掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的

投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。

    公司自 2001 年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压

印设备等，前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，公司所生产

的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。




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    （二）主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况

    公司开发生产的激光直写光刻设备是一种多用途的设备，目前主要是自用，

公司对外销售的金额较小，2022 年实现对外销售收入约 770.93 万元，2023 年上

半年实现对外销售收入约 2,177.27 万元，客户主要包括两类：第一类是高校和

科研院所，其采购公司光刻设备主要是用作相关领域的研究。第二类客户是除高

校和科研院所外的其他客户，主要包含各类企业客户，其采购公司光刻设备主要

用于其部分产品的研发及小批量试制、微纳光学材料及光通讯器件的制作等领域。

    公司相关光刻设备最近一年一期境内外销售情况如下：
                                 2022 年               2023 年上半年
光刻设备收入合计（万元）         770.93                  2,177.27
其中：境内                       460.84                  2,177.27
     境外                        310.09                     -
占当期营业收入比重               0.45%                    2.76%

    二、核实说明你公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技

术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险

    公司光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产，这部分市场被行业

龙头公司主导和垄断。公司光刻设备主要为自用于各类微纳光学产品和衍射光学

器件的制造，对外销售金额较小，外部客户采购主要用于相关领域的研发、试制

和微纳光学材料等生产。

    公司激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键

技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。

    三、进一步提示相关风险

    目前，公司生产的光刻设备主要为自用，外销收入占公司整体销售收入的比

重不足 3%,占比较小，对公司经营业绩没有重大影响，未来能否进一步扩大应用

领域和销售规模存在较大不确定性，敬请广大投资者注意相关风险。


    问题 2：详细说明你公司纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成

电路领域的布局情况，并充分提示相关风险。

     【公司回复】：


                                  3 / 6
    一、公司纳米压印技术的具体用途、研发情况

    公司当前主营业务中最主要的收入来源于各类微纳光学产品，通过“激光直

写光刻制作模具+纳米压印批量复制模具结构”的工艺，公司实现了光学 3D 印材

与防伪材料、导光/匀光材料、柔性透明导电膜等产品的批量制造。现阶段，公

司开发的纳米压印设备主要为公司自用，对外销售金额较小，对公司经营没有构

成重大影响。公司目前在纳米压印领域的应用和研发，除透明导电薄膜外，主要

集中在光学材料领域，与集成电路方面的应用无直接关系。

    二、公司纳米压印技术在集成电路领域的布局情况，并充分提示相关风险

    从国际领先厂商相关技术进展看，虽然纳米压印技术在成本和处理上具有一

定优势，但目前多停留在实验或验证阶段，要实现高端芯片的生产还面临着模板

结构均匀性与分辨率、缺陷率控制、模板寿命、压印胶材料、模具定位和套刻精

度等许多挑战，能否成功应用尚无定论。

    公司注意到纳米压印光刻在集成电路领域的应用潜力，并拟对上述领域应用

进行初步尝试。目前，公司纳米压印光刻技术在集成电路领域与早有相关布局的

行业龙头公司相比，在分辨率等部分关键参数上存在数量级的差距，公司期望通

过持续的研发，逐步缩小与国外龙头公司的差距，结果存在较大不确定性。

    三、相关风险提示
    现阶段，纳米压印光刻技术在集成电路领域的产业化应用方面仍存在较多的
技术难题和不确定性。公司在纳米压印领域主要专注在微纳光学材料及衍射光学
器件等领域，在其他领域的布局尚处于初期阶段，后续研发进展具有较大不确定
性，敬请广大投资者注意相关风险。


    问题 3：结合问题 1、问题 2 的回复，以及同行业可比公司情况、行业竞争

格局、上下游情况、你公司光刻设备相关产品的市场占有率及占主要客户同类

产品采购的份额等，进一步分析说明前述产品对你公司业绩是否具有重大影响，

并结合上述问题的回复说明你公司相关互动易回复是否真实、准确，是否存在

误导性陈述或重大遗漏。

    【公司回复】：


                                   4 / 6
    一、结合问题 1、问题 2 的回复，以及同行业可比公司情况、行业竞争格局、

上下游情况、你公司光刻设备相关产品的市场占有率及占主要客户同类产品采

购的份额等，进一步分析说明前述产品对你公司业绩是否具有重大影响

    结合前文分析，公司激光直写光刻设备主要为自用，对外销售的客户类型主

要包括高校及科研院所、部分企业用户，主要用途是科研以及相关产品的研发和

小批量试制。公司纳米压印设备主要为自用，对外销售订单较少，金额较小，对

公司经营业绩没有重大影响。

    二、结合上述问题的回复说明你公司相关互动易回复是否真实、准确，是

否存在误导性陈述或重大遗漏

    公司证券部门在回复相关互动易问题时，直接使用了“光刻机”、“龙头芯

片公司”等可能引起误解的表述，未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技

术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，未详细说明公司光刻设备的具

体类型，公司主要的应用领域，与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信

息；也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。前述回

复引起了部分投资者误会和误解，并导致公司股价发生较大波动，对此，公司及

公司证券部门诚恳向投资者表示歉意，并将积极吸取经验教训，进一步完善相关

制度和程序，持续学习相关产业政策和文件，努力提升与投资者互动沟通的严谨

性与信息传递的完整性，不断提升公司信息披露水平。


    问题 4：核实说明你公司控股股东、实际控制人，董事、监事、高级管理人

员及其直系亲属、持股 5%以上股东近 1 个月买卖你公司股票的情况，未来 3 个

月内是否存在减持计划，自查并说明你公司是否存在主动迎合市场热点炒作公

司股价、配合相关股东减持的情形。

    【公司回复】：
    公司董事会收到《关注函》后，立即组织公司控股股东、实际控制人，董事、

监事、高级管理人员及其直系亲属、持股 5%以上股东进行自查并出具《关于买

卖苏州苏大维格科技集团股份有限公司股票的自查报告》（以下简称“《自查报

告》”）。


                                   5 / 6
    经核查，公司控股股东、实际控制人，董事、监事、高级管理人员及其直系

亲属、持股 5%以上股东近 1 个月内未出现买卖公司股票的情况；公司上述股东

及相关人员未来 3 个月内不存在减持计划。

    公司不存在主动迎合市场热点炒作公司股价、配合相关股东减持的情形。


    问题 5：结合你公司近期接受媒体采访、机构和投资者调研、回复投资者咨

询等情况，说明是否客观、真实、准确、完整、公平地介绍公司业务的实际情

况，是否存在违反信息披露公平性原则的情形。

     【公司回复】：
    公司近期未接受过媒体采访；公司于 2023 年 9 月 15 日参加了由苏州上市公

司协会、深圳市全景网络有限公司联合举办的“2023 年苏州辖区上市公司集体

接待日暨中报业绩说明会”，具体内容详见公司于 2023 年 9 月 15 日披露的《投

资者关系活动记录表》。公司机构和投资者调研主要形式为互动易平台问答和来

电咨询。2023 年 8 月 15 日至 9 月 15 日期间，公司共回复互动易平台提问问题

23 个。



    特此公告。




                                      苏州苏大维格科技集团股份有限公司

                                               2023 年 10 月 8 日




                                  6 / 6