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公司公告

美迪凯:1.中信证券股份有限公司关于杭州美迪凯光电科技股份有限公司2023年度持续督导跟踪报告2024-05-22  

                           中信证券股份有限公司

                 关于杭州美迪凯光电科技股份有限公司

                       2023 年度持续督导跟踪报告



    中信证券股份有限公司(以下简称“中信证券”或“保荐人”)作为杭州美迪凯光
电科技股份有限公司(以下简称“美迪凯”或“公司”或“上市公司”)首次公开发行
股票并在科创板上市项目的保荐人,根据《证券发行上市保荐业务管理办法》、《上海证
券交易所科创板股票上市规则》等相关规定,负责美迪凯上市后的持续督导工作,并出
具 2023 年度持续督导跟踪报告。

一、持续督导工作情况

    1、保荐人制定了持续督导工作制度,制定了相应的工作计划,明确了现场检查的
工作要求。

    2、保荐人已与公司签订保荐协议,该协议已明确了双方在持续督导期间的权利义
务,并报上海证券交易所备案。

    3、本持续督导期间,保荐人及项目组成员通过与公司的日常沟通、现场回访等方
式开展持续督导工作,并于 2024 年 4 月 11 日、2024 年 5 月 10 日及 2024 年 5 月 15 日
对公司进行了现场检查。

    4、本持续督导期间,保荐人根据相关法规和规范性文件的要求履行持续督导职责,
具体内容包括:

    (1)查阅公司章程、三会议事规则等公司治理制度、三会会议材料;

    (2)查阅公司财务管理、会计核算和内部审计等内部控制制度,查阅公司 2023 年
内部控制评价报告、2023 年内部控制审计报告等文件;

    (3)查阅公司信息披露文件,查阅会计师出具的 2023 年度审计报告、关于 2023
年度非经营性资金占用及其他关联资金往来情况汇总表的专项审计报告;

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    (4)查阅公司募集资金管理相关制度、募集资金使用信息披露文件和决策程序文
件、募集资金专户银行对账单、募集资金使用明细账、会计师出具的 2023 年募集资金
存放与使用的专项核查报告;

    (5)对公司高级管理人员进行访谈;

    (6)对公司及其控股股东、实际控制人、董事、监事、高级管理人员进行公开信
息查询;

    (7)查询公司公告的各项承诺并核查承诺履行情况;

    (8)通过公开网络检索、舆情监控等方式关注与上市公司相关的媒体报道情况。

二、保荐人和保荐代表人发现的问题及整改情况

    在本持续督导期间,保荐人和保荐代表人未发现美迪凯存在重大问题。

三、重大风险事项

    在本持续督导期间,公司主要的风险事项如下:

    (一)业绩大幅下滑或亏损的风险

    公司正在推进多个项目建设,项目建成后公司固定资产规模将大幅增加,使得固定
资产折旧也相应增加。公司在建项目的实施具有不确定性,如果项目投产后经济效益不
及预期,则新增固定资产折旧将对公司业绩产生一定的不利影响,公司存在因折旧金额
大量增加而导致业绩大幅下滑的风险。

    (二)核心竞争力风险

    1、产品的技术迭代、产品更新较快的风险

    公司的各类产品和服务广泛应用于智能手机、安防监控、机器视觉、数码相机、投
影仪、智能汽车、大健康、元宇宙等终端产品及领域。丰富的终端应用场景及活跃的终
端消费市场决定了各细分领域产品的技术与工艺要求较为多样化,且技术迭代较快。如
果公司未来无法对新的市场需求、技术趋势做出及时反应,或是公司设计研发能力和技
术迭代速度无法与下游及终端客户持续更新的需求相匹配,则可能使公司相应产品和服
务的市场份额降低,进而将对公司经营业绩造成不利影响。


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    2、核心人员流水、核心技术失密的风险

    公司终端客户所处的消费电子行业等新兴科技行业发展较快,对产业链上游供应商
提出了较高的技术要求。公司所处的光学光电子、半导体行业是资本密集型、技术密集
型行业,有经验的技术研发人才是公司生存和发展的基础。维持核心团队的稳定并不断
吸引优秀人才,尤其是技术人才是公司在行业内保持优势的关键。目前的发展阶段对公
司各方面人才提出了更高要求。在企业间激烈的人才竞争下,未来公司可能面临核心人
才流失的风险。同时,公司建立了较为完备的知识产权保护体系,并与核心技术人员、
研发人员、高级管理人员签署保密协议及竞业禁止协议,防范泄密风险,切实保护核心
技术,但未来如果因核心技术信息保管不善或核心技术人员流失等原因导致公司核心技
术失密,将对公司造成不利影响。

    3、技术未能形成产品或实现产业化风险

    科技成果产业化并最终服务于经济社会发展的需求、提升国家综合实力和人民生活
水平是其意义所在。产品的技术迭代、产品更新较快及市场的变化将给科研技术成果的
应用带来很多不确定性。该领域的投资强度高、开发难度大、产业化周期长,可能发生
产业化过程中研发方向改变、新技术替代带来的风险。精密光学、半导体产品的应用领
域不断拓展,产品技术不断升级,市场需求面临较大的不确定性,企业的前瞻性技术成
果可能面临无法适应新的市场需求的情况,或者竞争对手抢先推出更先进、更具竞争力
的技术和产品,或出现其他替代产品和技术,从而使公司的技术成果面临产业化失败的
风险。

    (三)经营风险

    1、客户相对集中的风险

    报告期内,公司客户集中度相对较高,公司前五大客户销售金额占当期公司主营业
务收入的比例为 66.62%。公司的客户相对集中,主要系公司主要产品或服务不作为最
终消费品直接面向消费者,而是作为中间产品或服务,应用于下游行业,而下游行业集
中度比较高所致。

    由于公司的产品和服务具有定制化的特点,下游客户从产品质量和供货稳定性等因
素出发,一般不会轻易更换供应商。如果因客户自身经营出现重大不利变化,或者公司


                                     3
提供的产品或服务丧失竞争力,使得主要客户减少对公司产品和服务的采购需求,甚至
停止与公司合作,则将可能对公司的经营业绩产生较大不利影响。

    2、公司境外采购和收入占比较高,国际贸易摩擦加剧带来的风险

    光学光电子、半导体行业产业链分工精细,全球化程度高,因此易受到国内外宏观
经济和贸易政策等宏观环境因素的影响。随着国际贸易局势日益复杂,尤其中美贸易关
系面临较大不确定性,为公司的生产经营带来一定风险。

    公司采购境外生产商所产原材料及设备的占比较高,其中进口原材料主要产自日本、
俄罗斯、德国等国家,进口设备主要产自日本、欧洲等国家和地区。如果未来国际贸易
局势和政策发生重大变动,公司主要客户、原材料及设备供应商所处国家与中国的贸易
关系发生重大不利变化,可能导致公司主要产品和服务的下游需求及原材料、设备供应
受限,从而对公司经营造成不利影响。

    3、新项目推进未达预期的风险

    为及时抓住市场发展机遇,公司正积极推进一系列新项目建设。但项目建设过程中,
受资金筹措、市场环境变化、相关政策调整等多重因素的影响,从而可能导致新项目推
进未及预期。此外,如未来相关行业市场发展不及预期,也会较大程度影响公司新项目
经济效益的实现。

    (四)财务风险

    公司境外业务占比较高,报告期内公司境外销售收入占主营业务收入的比例
65.85%,境外销售的结算货币主要包括日元和美元等。日元和美元兑人民币汇率受全球
政治、经济影响呈现一定波动,未来若日元和美元兑人民币汇率出现重大波动,可能对
公司的出口业务和财务费用造成一定不利影响,进而影响公司经营业绩。

    (五)行业风险

    近年来随着智能手机、智能汽车、机器视觉、元宇宙、无人机、5G 通讯等新科技
领域的发展,为光学光电子、半导体行业开拓了更广阔的应用前景和市场空间。随着行
业技术的不断成熟、相关技术人才的增多、行业内外企业投资意愿的增强,未来行业壁
垒可能被削弱,公司可能面临市场竞争进一步加剧的风险。如果公司不能保持在技术研
发、客户资源、加工工序完整、品质管控、快速响应能力等方面的优势,不能持续强化

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技术落地能力和市场开拓能力,则可能对公司盈利能力产生不利影响。

    (六)宏观环境风险

    当前全球局势比较复杂,全球经济仍处于周期性波动当中,全球经济放缓可能对消
费电子、智能汽车、机器视觉、半导体等行业带来一定不利影响,进而影响公司业绩。
此外,公司的外销收入占比较高,若国际贸易摩擦加剧,也可能影响公司业绩。

    (七)保荐人关于上市公司存在业绩大幅下滑情况的提示

    公司 2023 年度营业收入 3.21 亿元、营业利润-1.07 亿元、净利润-0.87 亿元、归属
于上市公司股东的净利润-0.84 亿元、归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利
润-0.75 亿元,较上年度变动分别为-22.48%、-762.79%、-529.59%、-482.32%及-448.66%,
公司利润情况较上年度下滑超过 50%,存在业绩大幅下滑的情况。

四、重大违规事项

    2023 年度,公司不存在重大违规事项。

五、主要财务指标的变动原因及合理性

    2023 年度,公司主要财务数据及指标如下所示:

                                                                               单位:万元
              主要会计数据                      2023年度      2022年度       变动情况
营业收入                                          32,072.46     41,373.35         -22.48%
归属于上市公司股东的净利润                        -8,445.09      2,208.91        -482.32%
归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净
                                                  -7,515.99      2,155.70        -448.66%
利润
经营活动产生的现金流量净额                        12,818.80     18,722.17         -31.53%
              主要会计数据                      2023年末      2022 年末      变动情况
归属于上市公司股东的净资产                       146,284.75    154,963.43          -5.60%
总资产                                           227,722.52    190,906.97         19.28%
              主要财务指标                      2022年度      2021年度       变动情况
基本每股收益(元/股)                                 -0.21          0.06        -450.00%
稀释每股收益(元/股)                                 -0.21          0.06        -450.00%
扣除非经常性损益后的基本每股收益(元/股)             -0.19          0.05        -480.00%
加权平均净资产收益率                                -5.60%         1.42% 减少7.02个百分点


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扣除非经常性损益后的加权平均净资产收益率                  -4.99%           1.38% 减少6.37个百分点
研发投入占营业收入的比例                                  26.61%          17.53% 增加9.08个百分点

       上述财务指标主要变动情况如下:

       1、报告期营业收入同比减少 22.48%,主要是部分客户消化前期库存,订单减少;
新产品认证周期较长,新产品销售处于爬坡阶段。

       2、报告期归属于上市公司股东的净利润同比减少 482.32%,归属于上市公司股东
的扣除非经常性损益的净利润同比减少 448.66%,主要是因为公司部分客户消化前期库
存,订单减少,公司本期营业收入减少。同时,公司新项目投入的固定资产较大,相应
折旧费用增加,新产品认证周期较长,经济效益产生较慢;公司持续加大新技术、新产
品的开发,研发投入增加。

       3、报告期经营活动产生的现金流量净额同比减少 31.53%,主要是销售商品、提供
劳务收到的现金减少。

       综上所述,公司 2023 年度业绩下滑的主要驱动因素主要原因是消费电子行业受经
济环境及消费景气度下降等因素的影响,终端需求不振,公司客户消化前期库存;同时,
公司上市以来持续加大新产品、新技术的研发投入,以及相关固定资产设备的投入,研
发费用和固定资产折旧等费用大幅增加,多重原因导致上市公司 2023 年业绩存在业绩
下滑的情况,但从长期看,保荐人认为上市公司未来持续经营的能力不存在重大不确定
性。

       保荐人将本着勤勉尽责的态度,对公司未来业绩情况进行持续关注和督导,提醒公
司积极改善经营成果、提升盈利能力以及督促上市公司及时披露相关信息,以切实回报
全体股东。

六、核心竞争力的变化情况

       (一)公司的核心竞争力

       根据公司 2023 年年度报告,公司目前核心技术情况如下:
        核心技术
序号                                  核心技术的技术特点及先进性                      应用产品/服务
          名称

  1     精密光学   1.公司自主研发多线切割技术,可对水晶、石英、蓝宝石、陶瓷、铌酸锂   各类影像光学零



                                                   6
       核心技术
序号                                  核心技术的技术特点及先进性                          应用产品/服务
        名称
                  等材料进行高精度加工。2.公司自主研发对各类材质基板进行高精度外形       部件、生物识别
                  加工,其中玻璃晶圆的通孔技术可实现在 30 英寸玻璃晶圆上进行通孔加       零部件及精密加
                  工,孔径深宽比 40:1,最小孔径 5 微米,位置度≤3 微米。3.公司自主研    工服务、AR/MR
                  发各类材质晶圆衬底的研磨、抛光(包含 CMP)技术,最大加工尺寸可到       光学零部件精密
                  30 英寸,厚度公差、面型、粗糙度等指标具有较强的市场竞争力。4.公司        加工服务等
                  自主研发,掌握了包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜的 PVD 工艺,以及化学气
                  相沉积的 PEALD 工艺等各类薄膜技术,并完成各种光学膜系设计及生产
                  工艺开发,能够满足精密光学及生物识别零部件等产品对精密薄膜的要
                  求。同时公司自主设计,结合使用新型光学材料,进行膜层加工,可使光
                  学器件实现降低杂光、消除鬼影、增透的效果或实现光学光电子元器件薄
                  型化、消除摩尔纹、高清晰成像效果。
                  公司自主研发的半导体光学相关工艺技术,通过涂胶、光刻、显影、           超薄屏下指纹传
       半导体光   PVD、Liftoff、湿法蚀刻、干法蚀刻等半导体制程,直接在各种尺寸的晶       感器、图像传感
 2
          学      圆上叠加光学成像传输所需的各种无机薄膜、有机薄膜(ColorFilter 等)、   器、环境光传感
                  微透镜阵列等整套光路层(光学解决方案)。                                    器等
                                                                                            射频芯片
                                                                                          (SAW、BAW
                  公司自主研发在各类晶圆衬底上,通过涂胶、光刻、显影、PVD(EB、
       半导体微                                                                          等)、功率器件芯
 3                IB、Sputter、Bias)、PEALD、PECVD、HDPCVD、湿法蚀刻、干法蚀
        纳电路                                                                           片、光感芯片、
                  刻、CMP、Triming、TSV、TGV 等半导体制程,进行微纳电路加工。
                                                                                         气压传感器芯片
                                                                                               等
                  通过晶圆减薄、背金、激光开槽、刀轮切割、芯片贴合、引线键合、植
                                                                                         射频滤波器、图
                  球、倒装、覆膜(加真空印刷或 CMolding)、深硅刻蚀、激光诱导和分选
       半导体封                                                                          像传感器、功率
 4                测试等工艺研究,成功开发了正面晶圆级封装(LGA、WLCSP)、背面晶
          测                                                                             器件、开关电路
                  圆级封装(TSV、TGV)、芯片级封装(DFN、QFN、SOT、IGBT、TO 系
                                                                                           等芯片封装
                  列)等,不断提升半导体器件良好的导电和散热性能、小型化、薄型化。
                                                                                         工业相机、安防
       表面贴装   通过锡膏印刷、SPI、元件贴装、真空回流焊、波峰焊、AOI 检测等工艺研
 5                                                                                       相机、医疗器械
       (SMT) 究,成功开发了电路板表面贴装技术(SMT)。
                                                                                               等
                  1、通过晶圆减薄、单面研抛、光学成膜、镭射切割、性能测试等工艺研
                  究,成功开发超构表面光学器件加工技术,实现超构表面光学器件薄型
                  化、小型化、特定光学特性及高外观要求等特性;通过晶圆表面 PVD、涂
                  胶、曝光、显影、刻蚀等半导体工艺,进行超透镜(MetaLens)加工;2、       生物识别零部
                  采用灰度光刻技术完成 3D 微透镜阵列母版制作,结合晶圆级纳米压印工       件、AR/VR 零部
 6     微纳光学   艺技术在基板表面实现微结构加工,该产品结构具备高可靠性、高分辨         件、医疗检测、
                  率、高生产率(PV≤0.3um(MLA),Ra≤5nm),同时公司具有高矢高的        智慧家居、3D 深
                  微透镜阵列母板(透镜直径<500um,矢高>100um)和低矢高的微透镜灰         度感知类应用等
                  度光刻母板的制造能力(微透镜矢高 0.5um~40um);3、采用晶圆压纹封
                  装工艺,并结合丝印键合工艺,实现一种无基材晶圆级压印光学模组技术,
                  其最小尺寸可达 1mm*1mm,PV≤1um。


                                                   7
    (二)核心竞争力变化情况

    公司致力于光学光电子、半导体光学、半导体微纳电路、半导体封测行业细分领域
的研究和开发。始终将技术创新放在企业发展的首位,紧盯行业发展趋势,围绕客户和
市场需求,战略性聚焦关键核心技术攻关,推动新知识、新技术的深度连接和耦合发力,
不断丰富技术和产品路线,致力为客户提供更优质、多类型、定制化的产品及解决方案。

    本持续督导期间,保荐人通过查阅同行业上市公司及市场信息,查阅公司招股说明
书、定期报告及其他信息披露文件,对公司高级管理人员进行访谈等,未发现公司的核
心竞争力发生重大不利变化。

七、研发支出变化及研发进展

    (一)研发投入

    公司研发投入占营业收入比重的情况如下:

                 项目                   2023 年度              2022 年度     变化幅度(%)
 研发投入合计                                   1,724.14           766.31             124.99%
 研发投入总额占营业收入比例(%)                26.61%            17.53% 增加 9.08 个百分点

    公司本年度持续加大新技术、新产品的开发,研发投入增加所致。

    (二)专利技术

    2023 年度,公司获得授权专利 22 项(其中发明专利 4 项),申请受理专利 39 项(其
中发明专利 15 项)。截至 2023 年末,公司累计申请境内外专利 298 项,已经授权 214
项,其中有效专利 194 项,专利涉及精密光学、半导体光学、半导体封装、微纳光学、
晶圆传感器封装等公司主要核心技术,并取得境内外商标 5 项。具体如下:
                                                                                          单位:个
                              2023 年新增                             2023 年末累计数量
        项目
                         申请数         获得数                     申请数          获得数
发明专利                           15                      4                93                 27
实用新型专利                       24                  18                   205               187
外观设计专利                        -                      -                  -                 -
软件著作权                          -                      -                  -                 -
其他                                1                      -                 6                  5


                                            8
                                            2023 年新增                               2023 年末累计数量
               项目
                                      申请数                获得数                申请数                 获得数
               合计                               40                  22                     304                       219

          (三)在研项目

          2023 年度,公司主要在研项目情况如下:
                                                                                                           单位:万元
                                                                 进展或
                          预计总投    本期投入     累计投入                                                             具体应用
序号      项目名称                                               阶段性                 拟达到目标
                            资规模      金额         金额                                                                 前景
                                                                   成果
                                                                           通过各微电路层膜层材料及图案的设
                                                                           计,以及膜层沉积、黄光制程、刻蚀
       MEMS 传感器芯                                                                                                   消费电子、
                                                                           制程、湿法制程等工艺开发及流程开
 1     片微电路层图形       420.00        66.61         459.05   已量产                                                车载、医疗
                                                                           发,在裸硅片上实现符合特定信息传
       化干刻工艺研发                                                                                                  等领域
                                                                           输性能的 MEMS 传感器芯整套电路
                                                                           层图案制造
       高清摄像模组用
                                                                           通过研磨、抛光、光学成膜等工艺,
       红外吸收滤光片                                                                                                  智能手机
 2                          510.00       128.18         506.10   已量产    实现蓝玻璃基板可见光区入射角 0°-
       光学精密加工工                                                                                                  等领域
                                                                           30°的偏移极小的要求。
       艺的研发
       大尺寸光学玻璃
                                                                           通过线切割、研磨、抛光、光学成膜
       基板高平坦度研                                                                                                  智能穿戴
 3                          372.00        55.01         355.67   已量产    等工艺,实现对高折射率玻璃的高平
       抛工艺及高均一                                                                                                  等领域
                                                                           坦度要求和高膜层均匀性要求。
       性镀膜工艺研发
                                                                           研发安防相机线路板印刷、元件贴装、
       各类电子、电气
                                                                 小批量    光学芯片贴装、回流固化等工艺,实            安防等领
 4     主板 SMT 工艺研      237.00        51.10         191.85
                                                                 生产      现线路板光学元件高光洁度,贴装后            域
       发
                                                                           高可靠性要求。
                                                                           自主研发原子层沉积成膜技术,在各            智能手机、
       纳米级表面要求                                            已开发
 5                          347.00       189.02         351.79             类外形光学基板表面实现纳米级外观            车载等领
       封装基板研发                                              完成
                                                                           缺陷成膜。                                  域
                                                                           通过改变光刻胶的叠加方式与胶型结
       黄光制程小图案                                                                                                  智能手机、
                                                                           构,使镀膜拖尾长度小于 1 倍膜厚,
 6     间镀膜拖尾优化       736.00       618.64         840.64   已量产                                                车载、物联
                                                                           从而达到缩减不同镀膜区域间的间
       方案的研发                                                                                                      网等领域
                                                                           隙。
       温度补偿型声表                                                      产品采用高平坦、低翘曲、超薄铌酸
                                                                                                                       智能手机、
       面波滤波器(TC-                                           小批量    锂晶圆,通过单面化学研抛工艺、金
 7                         1,653.00     1046.57        1601.38                                                         车载、物联
       SAW)微电路工                                             试生产    属溅射镀膜结合半导体工艺及修频工
                                                                                                                       网等领域
       艺研发                                                              艺,实现晶圆表面微电路加工。
                                                                           通过自主研发覆膜技术和真空印刷技
                                                                                                                       智能手机、
       SAW Filter 封 装                                                    术,避免芯片封装空腔,增加产品硬
 8                          650.00       404.75         523.70   已量产                                                车载、物联
       工艺研发                                                            度,提升产品设计的灵活性和生产效
                                                                                                                       网等领域
                                                                           率,降低成本。
                                                                           自主研发溅射和离子束沉积成膜技
       车载雷达测距滤                                            已开发    术,在曲面玻璃上均匀成膜,实现黑            车载等领
 9                          405.00       452.58         459.83
       光片的研发                                                完成      色红外通及低电阻滤光片,该滤光片            域
                                                                           可帮助车载雷达实现远距精准测距。
       大尺寸车载光学                                                      研发采用蒸发镀膜结合黄光工艺在
                                                                 小批量                                                车载等领
 10    基材制作工艺研       183.00       111.48         173.24             12 寸 玻 璃 晶 圆 表 面 实 现 最 小 线 宽
                                                                 生产                                                  域
       发                                                                  5um±1.5um 的图形化镀膜。
                                                                           研发采用溅射镀膜工艺实现可见光及
       可见光红外波段
                                                                 小批量    红外波段穿透双通光学特性,并采用            智能手机
 11    双通镀膜及激光       217.00       145.96         197.91
                                                                 生产      激光切割工艺完成小尺寸切割工艺的            等领域
       切割工艺研发
                                                                           研发。

                                                             9
                                                             进展或
                           预计总投   本期投入   累计投入                                                  具体应用
序号      项目名称                                           阶段性              拟达到目标
                             资规模     金额       金额                                                      前景
                                                               成果
       AR/VR 领域均光                                                 研发采用灰度光刻技术制作微透镜阵
                                                             小批量                                        智能穿戴
 12    片纳米压印工艺        185.00     189.32     198.30             列图形结构母板,并采用纳米压印工
                                                             生产                                          等领域
       技术研发                                                       艺完成微米级别透镜加工。
       超大尺寸及超薄                                                 通过高精密研磨、抛光技术,结合单
       光学玻璃晶元精                                        工程验   面抛光工艺,实现 25 寸超大尺寸玻璃   智能穿戴
 13                          595.00     435.10     435.10
       密抛光技术及产                                          证     晶圆厚度加工至 0.2mm 的超薄化要      等领域
       品研发                                                         求。
                                                                      采用 PVD 成膜技术,结合黄光、lift-
                                                                      off 等工艺,实现膜层具有更稳定的阻
                                                                                                           显示屏、太
       各向异性导电膜                                        工程验   值,在膜厚方向具有良好的导电性,
 14                          362.00     276.21     276.21                                                  阳能电子
       镀膜工艺研发                                            证     使得芯片叠层连接位置导通性良好,
                                                                                                           等领域
                                                                      有效的解决了压合工艺中芯片连接位
                                                                      置阻值变大的问题。
                                                                      对于功率器件各叠层结构及膜层材料
       功率器件芯片微                                                                                      消费电子、
                                                             工程验   的设计,通过金属膜层沉积工艺的调
 15    电路层金属膜层        583.00     400.50     400.50                                                  车载、医疗
                                                               证     整,达到高精度膜厚及均匀性需求,
       沉积工艺研发                                                                                        等领域
                                                                      实现功率器件高品质、低能耗的目标。
                                                                      自主开发 Mosfet 器件封装技术,通过
       Mosfet 器件小型                                                引线键合、塑封等工艺,实现产品小
                                                             工程验
 16    化、低功耗封装        365.00     188.73     188.73             型化、薄型化、低功耗等特性,在保     电源管理
                                                               证
       工艺研发                                                       证产品稳定性和可靠性的同时降低材
                                                                      料成本,提升产品性能。
                                                                      采用真空镀膜技术,通过膜系设计及
                                                                      成膜工艺,在光学基板表面成膜,使
       关于阵列式波导
                                                             小批量   产品在可见光波段范围内,满足光线     智能穿戴
 17    片镀膜工艺的研        235.00     166.17     166.17
                                                             试生产   一定入射角度时特定反射值的要求,     等领域
       发
                                                                      为智能穿戴产品提供大视场角、高分
                                                                      辨率等硬件能力
                                                                      通过镭射切割、腐蚀等工艺,结合超
       大尺寸超薄玻璃                                                 大尺寸玻璃加工平台的应用,实现在
                                                             工程验                                        智能手机
 18    镭射打孔工艺的        226.00     111.13     111.13             大尺寸超薄玻璃基板上通孔加工,通
                                                               证                                          等领域
       研发                                                           孔散差及位置度精度达到微米级的要
                                                                      求。
       光学模压晶圆间                                                 研发以树脂为材料的晶圆间隔层起到
                                                             小批量                                        智能手机
 19    隔层技术研发项        168.00     137.30     137.30             智能手机类光学镜头组件间定位、聚
                                                             试生产                                        领域
       目                                                             焦和遮光效果。
       车载 HUD 均光片                                                研发灰度光刻结合纳米压印工艺,制
                                                             工程验                                        车载等领
 20    纳米压印工艺技        175.00      47.31      47.31             作车载 HUD 上的光学匀光片,起到
                                                               证                                          域
       术研发                                                         匀光、整型等特殊光学投影效果。
       AR 镀 膜 结 合 丝                                              研发特殊光学滤光片制作工艺,以满
                                                             工程验                                        AR/VR 等
 21    印技术以及异形        158.00     110.57     110.57             足 AR/VR 或医疗设备等领域的特殊
                                                               证                                          领域
       割工艺研发                                                     滤光需求。
                                                                      通过 PVD 成膜技术,结合黄光、Lift-
                                                                                                           智能手机、
       无机物沉积方式                                                 off 工艺,自主开发无机颜色膜工艺代
                                                             小批量                                        消费电子、
 22    实现 RGB 阵列工       973.00     833.04     833.04             替传统半导体彩胶工艺,实现各通道
                                                             试生产                                        物联网等
       艺研发                                                         光透过率更高、损耗小,光选择性更
                                                                                                           领域
                                                                      好、设计灵活等特性。
                                                                      通过线切割、研磨、精雕、抛光等工
       射频芯片基板研                                        工程验   艺,对 LT\LN 等材质进行晶圆加工,
 23                          322.00      66.55      66.55                                                  射频芯片
       发                                                      证     实现产品的高外观、TTV、翘曲等要
                                                                      求。
       射频芯片晶圆                                                   自主开发化学抛光工艺,使晶圆表面     智能手机,
                                                             工程验
 24    SIO2 层化学抛光       272.00     128.98     128.98             SIO2 膜层平坦化,提高产品频率一致    消费类电
                                                               证
       工艺研发                                                       性,提升产品良率和性能。             子




                                                        10
                                                               进展或
                         预计总投      本期投入    累计投入                                                  具体应用
序号       项目名称                                            阶段性              拟达到目标
                           资规模        金额        金额                                                      前景
                                                                 成果
                                                                        通过黄光技术开发改善胶型,并优化
                                                                        各通道膜系设计和成膜技术,使各通
        多通道高膜厚光                                                                                       智能手机、
                                                               工程验   道膜层单边拖尾<1.5um,结合 Lift-
 25     路层黄光工艺研       679.00       144.7       144.7                                                  车载、医疗
                                                                 证     off 工艺,突破涂胶后高温镀膜和长时
        发                                                                                                   等领域
                                                                        间非球心的多薄膜叠层去胶的行业两
                                                                        大难点,实现晶圆表面无残留。
                                                                        采用新型散热材料和晶圆衬底,通过
        高性能声表面波                                                  半导体工艺、膜层沉积工艺的设计和
                                                                                                             智能手机、
        滤波器(IHP                                            工程验   优化,提高射频滤波器 Q 值,降低频
 26                          879.00      291.11      291.11                                                  车载、物联
        SAW)微电路工                                            证     率温度系数,提升产品散热性能,实
                                                                                                             网等领域
        艺研发                                                          现 射频滤波器更好的温度特性和更
                                                                        高的能量传输效率。
                                                                                                             2.5D/3D
                                                                                                             晶圆级封
                                                                        采用激光诱导和蚀刻技术,在玻璃基
                                                                                                             装、射频模
        玻璃基板激光微                                         工程验   板上进行高纵横比微孔加工,使微孔
 27                          373.00         4.12        4.12                                                 块、图像传
        孔工艺研发                                               证     侧壁光滑、无裂纹、无碎屑、无应力,
                                                                                                             感器、摄像
                                                                        可实现可靠的金属化
                                                                                                             头模块等
                                                                                                             领域
                                                                        研发心电检测仪线路板印刷、元件贴
        心电监测仪表面                                         工程验   装、回流固化、波峰焊接等工艺,实 医 疗 电 子
 28                           45.00       40.61       40.61
        贴片工艺研发                                             证     现心电监测仪线路板贴装后高可靠性 领域
                                                                        要求。
                                                                        自 主 设 计 国 内 第 一 款 100*300mm
                                                                        SOT23-32 排引线框架,通过宽排框架
        一 种 SOT23-32
                                                               小批量   粘片、焊线、塑封、切筋等工艺,保证 车载、智能
 29     排引线框架设计        45.00       13.04       13.04
                                                               生产     产品可靠性 MSL3 及高良率要求,并 家居等
        及工艺技术研发
                                                                        能最大限度提升产品性能及降低生产
                                                                        成本。
          合计             12,370.00    6,854.39    9,254.63     /                       /                       /


       八、新增业务进展是否与前期信息披露一致

           本持续督导期间,保荐人通过查阅公司招股说明书、定期报告及其他信息披露文件
       等核查手段,未发现公司存在新增业务。

       九、募集资金的使用情况及是否合规

           (一)募集资金使用及结余情况

           截至 2023 年 12 月 31 日,公司募集资金使用及存放具体情况如下:
                                                                                                    单位:万元
                              项目                                      序号                      金额
        募集资金净额                                                      A                          94,206.52
                              项目投入                                   B1                          71,924.93
        截至期初累计发生
                              利息收入净额                               B2                           1,696.10
        额
                              短期补充流动资金                           B3                          17,000.00

                                                          11
                        项目                               序号                      金额
                        短期补充流动资金归还               B4                             10,000.00
                        永久补充流动资金                   B5                             16,504.92
                        项目投入                           C1                                37.42
                        利息收入净额                       C2                                22.30
 本期发生额             短期补充流动资金                   C3                              1,700.00
                        短期补充流动资金归还               C4                              7,000.00
                        永久补充流动资金                   C5                              5,753.55
                        项目投入                        D1=B1+C1                          71,962.35
                        利息收入净额                    D2=B2+C2                           1,718.40
 截至期末累计发生
                        短期补充流动资金                D3=B3+C3                          18,700.00
 额
                        短期补充流动资金归还            D4=B4+C4                          17,000.00
                        永久补充流动资金                D5=B5+C5                          22,258.47
 应结余募集资金[注 2]                               E=A-D1+D2-D3+D4-D5                          4.10
 实际结余募集资金[注 2]                                     F                                   4.10
 差异                                                     G=E-F                                    -
    注:不包括短期补充流动资金金额 7,000 万元。

    截至 2023 年 12 月 31 日,公司募集资金的存放情况如下:

                                                                                           单位:元
         开户银行                      银行账号            募集资金余额              备    注
 中国建设银行股份有限公司
                               33050161772709899999               11,217.59           活期
 杭州钱塘支行
 中信银行股份有限公司杭州                                                         已于 2023.6.21
                               8110801018779999999                        /
 经济技术开发区支行                                                                   注销
                                                                                  已于 2023.6.29
 杭州银行科技支行              3301040160017089403                        /
                                                                                      注销
                                                                                  已于 2023.6.28
 宁波银行杭州城东支行          71060122000511992                          /
                                                                                      注销
 宁波银行杭州城东支行          71060122000512468                  29,752.14           活期
          合   计              /                                  40,969.73   /

    (二)募集资金使用是否合规

    本持续督导期间,保荐人查阅了公司募集资金管理使用制度、募集资金专户银行对
账单和募集资金使用明细账,查阅募集资金使用信息披露文件和决策程序文件,实地查
看募集资金投资项目现场,了解项目建设进度及资金使用进度,取得上市公司出具的募
集资金使用情况报告和年审会计师出具的募集资金使用情况鉴证报告,对公司高级管理

                                               12
人员进行访谈。

     基于前述核查程序,保荐人认为:本持续督导期间,公司已建立募集资金管理制度
并予以执行,募集资金使用已履行了必要的决策程序和信息披露程序,募集资金进度与
原计划基本一致,基于前述检查未发现违规使用募集资金的情形。

     截至 2023 年年末,公司首次公开发行承诺投资项目光学光电子元器件生产基地建
设项目整体投入进度为 101.91%,研发中心建设项目投入进度为 102.88%,均已结项。
其中,光学光电子元器件生产基地建设项目截至 2023 年 12 月 31 日,该项目累计承诺
效益为 3,484.88 万元,累计实现效益-2,610.24 万元,尚未达到承诺效益,主要原因系投
产初期项目尚未达到满负荷状态,产能利用率较低,项目规模效益未能及时体现,请公
司持续、有序推进募投项目的建设及实施,确保募集资金投资项目按计划实现预期收益。

十、控股股东、实际控制人、董事、监事和高级管理人员的持股、质押、冻结及减持情

况

     截至 2023 年 12 月 31 日,公司实际控制人、董事、监事和高级管理人员持有的股

份均不存在质押、冻结的情形。

十一、本所或者保荐人认为应当发表意见的其他事项

     基于前述保荐人开展的持续督导工作,本持续督导期间,保荐人未发现应当发表意

见的其他事项。

     (以下无正文)




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(本页无正文,为《中信证券股份有限公司关于杭州美迪凯光电科技股份有限公司 2023

年度持续督导跟踪报告》之签章页)




保荐代表人:

                       丁旭东              翟   程




                                                        中信证券股份有限公司




                                                           年    月    日




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