中微公司发布2022年中报。公司上半年实现营收19.72亿元，yoy+47.3%。归母净利润4.68亿元，yoy+17.9%，扣非归母净利润4.41亿元，yoy+615.3%。上半年综合毛利率45.4%，同比+3.0%，净利率23.7%，同比-5.9%。2022H1非经常性损益同比减少3.1亿元，其中主要是政府补助同比减少2.0亿元，股权投资产生的公允价值变动收益同比减少1.8亿元。刻蚀业务高速增长，MOCVD今年潜力巨大。2022H1刻蚀设备收入12.99亿元，yoy+51.5%，毛利率达到46.05%，其中CCP刻蚀设备8.86亿元，yoy+14.0%，ICP刻蚀设备4.13亿元，yoy+414.1%。miniLED终端市场新品迭出，渗透率快速增长，行业投资火热。上半年MOCVD设备收入2.41亿元，yoy+9.9%，毛利率达到35.4%，同比提升4.7%，UniMax订到超过180腔，今年MOCVD业务有望实现高增长。 ICP放量增长强劲，产品更新迭代，多领域布局。2021年公司付运298腔CCP、134腔ICP。2022年初至今交付292个反应台，截至2022年6月底，公司设备累计付运台数达2654个反应台。此外公司不断进行产品迭代并开发新品：【刻蚀】新品开发进展良好，将陆续进入市场。1）逻辑：新一代刻蚀设备、大马士革等刻蚀工艺；2）3DNAND：200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用；3）截止2022年6月底，PrimoNanova顺利交付超过220台反应腔，正在开发ICP下一代新品。【MOCVD】：1）硅基氮化镓功率器件用MOCVD已在客户产线上验证；2）MicroLED用MOCVD以及用于SiC功率器件的外延设备等正在开发中。【CVD】：1）LPCVD已通过关键客户工艺验证，积极推进量产验证；2）ALD研发中，可满足先进存储和逻辑器件金属阻挡层，以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。【EPI】：用于28nm及以下的逻辑、存储和功率器件锗硅外延生长工艺，已进入样机制造和调试阶段。大力研发，人均创收达到国际先进水平。公司上半年研发投入3.5亿元，同比增长20.9%，占营收比重17.6%。截至6月底研发人员数量496人，占员工总数41.4%，上半年人均年化营收已达到350万元。公司2022H1新签订单金额同比增长61.8%达30.6亿元，6月底公司合同负债15.9亿元，公司在手订单饱满，南昌、临港等产业化及研发基地今明年陆续投产后，新增产能及研发空间将有力支撑长期增长。半导体刻蚀设备龙头，内生外延打造旗舰平台型企业。 公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队。MOCVD持续升级迎来MiniLED拐点，CCP产品涵盖国内外一线客户，ICP产品快速迭代并放量，并布局沉积等新产品线，打造半导体设备旗舰企业，通过外延投资拓荆科技、睿励仪器、天岳先进等推进平台型建设。我们预计公司2022~2024年归母净利润10.4/14.0/17.2亿元，维持“买入”评级。风险提示：下游需求不及预期，新产品开发进展不及预期

半导体刻蚀设备收入持续高速增长，公司1H22营收增长18%，扣非后净利润增长615%，其中2Q22收入增长4成，扣非后净利润增长403%，业绩弹性持续显现。 长期来看，公司作为国内半导体设备龙头企业，在高端刻蚀设备技术储备国内领先，将长期受益于国产替代的推进。从估值来看，公司2023年PS预计约15倍，公司作为国内领先刻蚀设备厂商估值享有一定溢价，维持买进的评级。 盈利能力显著提升，2Q22扣非后净利润大幅增长：2022上半年公司实现营收19.7亿元,YOY增长47.3%;实现净利润4.7亿元,YOY增长17.9%,扣非后净利润4.4亿元，YOY增长615%，EPS0.76元。其中，第2季度单季公司实现营收10.2亿元,YOY增长39.1%，实现净利润3.5亿元，YOY增长35.4%，扣非后净利润2.5亿元，YOY增长403%。公司业绩符合预期。分业务来看，公司2022年上半年刻蚀设备收入为12.99亿元，较去年同期增长约51.5%，是业绩增长的最大的动力。具体来看，其中CCP刻蚀设备上半年收入8.86亿元，同比增长13.98%；ICP刻蚀设备上半年收入4.13亿元，同比增长414%；公司2022年上半年MOCVD设备收入为2.41亿元，较去年同期增长约9.90%。同时就毛利率来看，1H22公司综合毛利率45.4%，较上年同期3个百分点，进一步推升盈利增长。 盈利预测：公司继2021年新增订单金额增长90%达到41亿元后，1H22新签订单金额又同比增长了约62%达到30.6亿元，为后续业绩高速增长奠定良好基础。我们预计公司2022-23年营收分别45亿元和61亿元，YOY增长46%和34%，净利润11.2亿元和13.8亿元，YOY分别增长11%和23%，EPS分别为1.82元和2.24元，目前股价对应2023年PE64倍，2023年PS预计约15倍，公司作为国内领先半导体设备厂商估值享有一定溢价，给与买进的评级。 风险提示：新冠疫情拖累半导体设备需求增长。

事件：8月10日，公司发布2022年中报，上半年公司实现营收19.72亿元，yoy+47.30%；归母净利润4.68亿元，yoy+17.94%；扣非归母净利率润4.41亿元，yoy+615.26%。单Q2，公司实现收入10.23亿元，yoy+39.08%；归母净利润3.51亿元，yoy+35.44%；扣非归母净利润2.54亿元，yoy+403.47%。 业绩符合预期，新签订单大幅增长 上半年公司收入增速47.30%，实现高速增长，主要系公司克服了新冠疫情的不利影响，在设备市场发展及公司产品竞争优势提升的背景下，公司等离子体刻蚀设备及MOCVD设备等核心业务保持了高速、稳定的增长。公司新签订单维持较高增长，上半年公司新签订单达30.57亿元，yoy+61.83%。分产品来看：刻蚀设备收入占比持续提升，各项业务毛利率水平均有所提高。（1）刻蚀设备：上半年公司刻蚀设备收入为12.99亿元，yoy+51.48%，毛利率达到46.02%，其中：①CCP刻蚀设备：收入8.86亿元，yoy+13.98%，公司保持在CCP刻蚀设备领域的领先优势，积极开发新产品；②ICP刻蚀设备：收入4.13亿元，yoy+414.08%，主要系公司ICP设备产品出货量保持高速增长，在先进系统封装、微机电系统等成熟市场获得重复订单，并在3D芯片等新兴市场逐步得到验证。（2）MOCVD设备：收入2.41亿元，yoy+9.90%，毛利率35.42%（同比增长4.65pct）。近年来，中国LED芯片产业的快速发展带动了作为产业核心设备的MOCVD设备需求量的快速增长，特别是从2021年下半年到2022年Mini-LED显示屏产业和功率器件等多种产业的大发展，迎来了一个MOCVD市场需求的高潮。 扣非归母净利润实现高速增长，盈利能力持续提升 上半年公司扣非归母净利润增速为615.26%，实现大幅增长。归母净利润增速弱于扣非归母净利润增速，主要系本期非经常性损益较去年同期减少3.08亿元（其中，政府补助减少2.03亿元；股权投资产生公允价值收益减少1.77亿元）。 公司盈利能力持续提升。2022年上半年公司实现销售毛利率45.36%，同比提升3.02pct，主要系高毛利率的刻蚀设备收入占进一步提升，产品结构改善；销售净利率23.66%，同比降低5.96pct；扣非归母净利率22.35%，同比提升17.75pct。公司实现期间费用率24.11%，同比降低6.77pct，其中，销售费用率8.72%，同比降低2.28pct，主要系本期职工薪酬增加2158万元，预计产品质量保证损失增加877万元，股份支 付费用减少976万元；管理费用率5.19%，同比降低2.66pct，主要系本期股份支付费用减少1266万元，职工薪酬增加981万元；研发费用率15.38%，同比提升2.83pct，主要系本期职工薪酬增加6713万元；财务费用率-5.18%，同比降低4.66pct，主要系本期利息收入增加6694万元。 产品已达国际先进水平，公司综合实力进一步增强，进一步向平台化方向发展 ①刻蚀设备：在逻辑电路领域，公司根据先进集成电路厂商的需求，已开发出5纳米及更先进刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单；公司目前正在配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。在3DNAND芯片制造环节，公司根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用以及其他关键刻蚀应用的刻蚀设备和工艺。 ②MOCVD设备：公司的MOCVD设备已在全球氮化镓基LEDMOCVD市场中占据领先地位；用于制造深紫外光LED的高温MOCVD设备PrismoHiT3?，已在行业领先客户端生产验证并获得重复订单；用于MiniLED生产的MOCVD设备PrismoUniMax?，已在领先客户端开始进行规模生产，并取得180台的客户订单；制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD设备已在客户芯片生产线上验证；此外，制造MicroLED应用的新型MOCVD设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中，进一步向平台化方向迈进。 投资建议：我们预计公司2022年-2024年分别实现收入43.46、58.73、76.49亿元，yoy+39.83% / 35.13% / 30.23%；分别实现净利润11.19、14.48、19.27亿元，yoy+10.64% / 29.40% / 33.05%；6个月目标价171.54元，对应2023年18倍PS，维持“买入-A”评级。 风险提示：下游需求衰减风险，市场竞争加剧风险，国产替代不及 预期。

公司发布 2022年半年报业绩：营业收入 19.7亿元，同比增长 47.3%；归母净利润 4.67亿元，同比增长 17.9%；扣非归母净利润 4.41亿元，同比增长 615.3%。 投资要点人效管理持续提升，盈利能力不断增强受益于设备市场发展以及公司产品竞争优势,公司不惧疫情扰动，2022年上半年实现营业收入 19.7亿元，同比增长47.3%。上半年公司毛利率 45.3%，同比提升 3pct；公司销售费用率 8.72%，同比下滑 2.28pct，其中本期职工薪酬增加 0.22亿元，股付费用减少 976万元；管理费用率 5.1%,同比下滑 2.8pct，其中股份支付费用减少 0.13亿元，职工薪酬增加 981万元；公司 2022年上半年人均年化营收达350万元，公司人效持续提升。财务费用率-5.18%，同比减少 4.67pct，主要系利息收入增加 0.67亿元。2022年上半年归母净利润 4.67亿元，同比增长 17.9%；扣非归母净利润 4.41亿元，同比增长 615.3%，其中非经常性损益同比减少 3.08亿元，包括计入非经损益的政府补助同比减少 2.03亿元（上半年计入当期损益的政府补助 0.1亿元）及股权投资缠绳的公允价值变动收益减少 1.77亿元。公司上半年扣非净利率 22.4%，同比增长 17.8pct，盈利能力持续走强。 公司 2季度单季扣非归母净利润 2.55亿元，扣非归母净利润率达到 25%，同比提升 18pct，环比 Q1增长 5.4pct，创单季度历史新高。 刻蚀设备毛利率达 46.1%，ICP 刻蚀设备快速放量公司 2022年上半年刻蚀设备收入 13.0亿元，同比增长51.5%；其中 CCP 刻蚀设备收入 8.86亿元，同比增长14.0%，ICP 刻蚀设备收入 4.13亿元，同比增长 414%，处于快速放量阶段。刻蚀设备毛利率达 46.1%，盈利能力进一步 提升。 CCP 刻蚀设备方面，上半年公司持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，在部分客户市场占有率已进入前三位，在一些主要客户的生产线上已达到 30%甚至更高的市场占有率。在先进逻辑电路方面，公司持续升级产品性能，CCP 刻蚀设备成功取得 5nm 及以下逻辑电路客户的重复订单。在存储电路方面，公司 CCP 设备可应用于 64层、128层及更高层数 NAND 的量产，随着 3D NAND 芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单高速稳步增长。同时积极布局并拓展刻蚀设备在动态存储器的应用，随着更多工艺开发及验证通过，已经取得客户批量订单。 目前公司正根据存储器厂商的需求开发新一代能够覆盖 200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用以及其他关键刻蚀应用的刻蚀设备和工艺。 ICP 刻蚀设备方面，公司刻蚀线宽均匀性已达到 1σ 0.25纳米的水平，年销售额增速超 100%，已经进入超 15家客户的生产线进行 100多个 ICP 刻蚀工艺的验证。上半年 PrimoNanova 系列顺利交付超 40台反应腔，在客户端完成验证的应用数量也在持续增加，持续取得国际先进 3D NAND 客户批量订单，高输出率的 Primo Twin-star 系列已经在国内领先客户生产线上完成认证，订单量持续增加，已进入更多客户端进行验证。 根据客户的技术发展需求，公司正在进行下一代产品的技术研发，以满足 5nm 以下的逻辑芯片、1X 纳米的 DRAM 芯片和 200层以上的 3D NAND 芯片等产品的刻蚀需求，并进行高产出的 ICP 刻蚀设备的研发；用于 5nm 逻辑芯片的 ICP 刻蚀机已经完成在先进逻辑芯片生产厂家评估并实现销售；用于 3nm 逻辑芯片的 ICP 刻蚀机已经完成 Alpha 原型机设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估；用于 7-5nm Finfet结构的逻辑芯片的 ICP 刻蚀机已经研制出样机并制造工程机在客户端验证。 公司 8和 12英寸深硅刻蚀设备 Primo TSV200E、PrimoTSV300E 在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单，同时在 3D 芯片等新兴市场的刻蚀工艺上也得到验证。 此外，公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极 高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。 MOCVD 获得大批量订单，业绩增长确定性强公司 2022年上半年 MOCVD 设备收入 2.41亿元，同比增长9.9%。MOCVD 设备毛利率达 35.4%，同比增长 4.65pct，或由于高毛利率产品收入占比提升所致。 公司新开发的制造 Mini led 蓝光和绿光器件的 MOCVD 设备PrismoUnimax 系列已经实现单腔 41片 4英寸外延芯片加工能力，发光波长的均匀性达到 1σ 0.8纳米水平。在去年进入市场连续获得批量订单的基础上，今年上半年继续获得多家客户大批量订单，累计订单超 180腔，考虑到交付周期，或有望在下半年及下一年持续带来业绩。 公 司 也 正 在 开 发 用 于 氮 化 镓 、 碳 化 硅 功 率 器 件 和 制 造Micro-LED 的 MOCVD 专用设备，目前制造硅基氮化镓功率器件用 MOCVD 设备已在客户芯片生产线上验证。 产品研发进展顺利，提前布局产业发展公司自主研发 EPI 外延设备和 LPCVD 设备，公司所开发的钨沉积设备具有优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及 64层、128层和 200层以上 3D NAND 中的多个关键应用，目前已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。公司还在持续研发新的填充工艺方案，以满足更高深宽比接触孔及沟道电极的需求，接触孔用 WCVD 设备正在研究阶段。公司的原子层沉积设备的研发也在积极推进中，所开发设备能够满足先进存储器件和逻辑器件金属阻挡层的应用，以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。EPI 设备面向 28nm 及以下的逻辑、存储、功率器件等应用，目前研发进展顺利，已进入样机制造和调试阶段。随着研发和验证进程的持续推进，未来或有望成为新的业绩增长点。 新签订单持续高增，产能扩张夯实长期基础公司 2021年新签订单 41.3亿元，同比增长 90.5%；2022年上半年新增订单 30.6亿元，同比增长 61.8%，占 2021年全年新签订单金额比例达 74%，订单增长持续高增。公司 2022年上半年存货 24.9亿元，同比增长 73.7%；合同负债 15.9 亿元，同比增长 268%。 公司南昌生产及研发基地已经部分完工，部分生产洁净室于2022年 7月投入试生产，上海临港约 18万平方米生产研发基地已大部分封顶；上海临港滴水湖约 10万平方米总部大楼在顺利建设中，预计未来厂房相比现在提升十倍以上，有望夯实长期发展基础。 平台化布局，外延式发展，打造设备龙头公司平台化布局同时，外延式发展，参股 PECVD 设备领域拓荆科技、半导体检测设备领域上海睿励、光伏电池及平板显示屏用 PECVD 领域理想万里晖，以及镀膜和膜层改性设备领域 SOLAYER，有望打开长期增长空间，巩固产业链协同效应，完善公司业务布局，持续打造半导体设备公司龙头。 盈利预测预计公司 2022-2024年收入分别为 45.9/62.6/80.9亿元，归母净利润分别为 12.4/16.0/19.3亿元，对应当前股价对应 PE 分别为 71、55、46倍。给予“推荐”评级。 风险提示半导体市场需求不及预期；下游晶圆制造产能扩充不及预期风险；零部件短缺风险；新设备研发进度不及预期风险等

事件： 公司发布 2022年半年度业绩公告。营业收入达到 19.72亿元，同比增长 47.30%； 归母净利润 4.68亿元，同比增长 17.94%；扣非归母净利润达到 4.41亿元，同比增长了615.26%。公司 2022年上半年新签订单金额达到 30.57亿元，同比增长了约 61.83%。 点评： 公司 2022H1营业收入、 扣非净利润增长显著主要归因于： 公司坚持以市场和客户需求为导向，积极应对复杂形势，持续加大研发投入和业务开拓力度，等离子体刻蚀设备及 MOCVD 设备等核心业务保持了高速和稳定的增长。受益于设备市场发展及公司产品竞争优势，公司克服新冠疫情的不利影响，在客户和供应商的密切合作及支持下，公司的综合竞争优势继续得到强化和提升，公司产品订单、付运及营业收入取得了超预期的成绩。 公司订单持续高速增长， 在 2021年比 2020年全年新增订单金额增长 90.46% 达到41.29亿元、营业收入增长 36.72% 达到 31.08亿元的基础上，公司 2022年上半年新签订单金额又同比增长了约 61.83% 达到 30.57亿元。 刻蚀技术重要性日渐提升，小于 5nm 设备获批量订单，产品差异化配置满足客户多维需求。 随着先进芯片制程从 14纳米向 5纳米及更先进工艺的方向发展，光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。公司刻蚀设备在工艺覆盖度方面不断提升，在客户端验证的工艺进度良好，目前订单情况饱满。举例来看，公司 CCP 设备可应用于 64层和 128层的量产， 128层及以上关键刻蚀应用正在开发； ICP 已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，正在据客户需求研发下一代高产出产品以满足 5纳米以下的逻辑芯片、 1X 纳米的 DRAM 芯片和 128层以上的 3D NAND 芯片的刻蚀需求。 MOCVD 第二增长曲线扬帆起航，积极布局第三代半导体应用设备。 根据公司公告，全球每年需求超过 800台 MOCVD 设备，公司在照明、 Mini LED 和 Micro LED、功率器件三点发力开发外延设备，预计可覆盖大约 75%的 MOCVD 设备市场。公司 2021年发布的新产品 Prismo UniMax 主要针对 Mini-LED 设计，具备高波长均匀性、高良率等优点，此外，该设备可同时加工 164片 4英寸或 72片 6英寸外延片，性能、复杂性大大提高，已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过 100腔， 有望助力毛利率快速上扬。 同时公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，开发 GaN 功率器件量产应用的 MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户进行生产验证。此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，将进一步丰富公司的产品线。 募投项目持续进展，产业化建设顺利推进。 为扩充资产规模、增强公司实力以持续做大做强主业，公司在 2021年完成了向特定对象发行股票，向特定对象发行股票数量为80,229,335股，发行价格为 102.29元/股，发行的募集资金总额为 8,206,658,677.15元。中微临港产业化基地项目已经完成结构封顶；南昌 14万平方米的研发生产基地已全面封顶，计划将于年内陆续投入生产。主要承担较为成熟产品的大规模量产及部分产品的研发升级工作；中微临港总部和研发基地项目正在进行施工前临设搭建、机械进场组装等准备工作。 股权激励彰显信心，为公司持续健康发展提供机制保障。 公司于 2022年 3月发布股权激励草案，激励对象总人数为 1104人，占公司全部职工人数的 99.37%，向激励对象授予 400万股限制性股票，约占本激励计划草案公告时公司股本总额 61,624.45万股的0.649%。限制性股票的授予价格为每股 50元，即满足授予条件和归属条件后，激励对象可以每股 50元的价格购买公司向激励对象增发的公司 A 股普通股股票。 投资建议：公司研发与新产品推出稳步进行，长期看好公司发展。我们预计公司 22-24年实现净利润 11.24/14.13/17.50亿元，维持“买入”评级。 风险提示： 新应用及新产品拓展不及预期；竞争环境恶化风险；供应商扩产不及预期。

国内半导体设备龙头，2022H1业绩高增长，维持“买入”评级 2022年8月10日公司发布半年报，2022H1营收19.72亿元，同比+47.30%；归母净利润4.68亿元，同比+17.94%；扣非净利润4.41亿元，同比+615.26%。计算得2022Q2单季度营收10.23亿元，同比+39.08%，环比+7.74%；归母净利润3.51亿元，同比+35.44%，环比+199.18%；扣非净利润2.55亿元，同比+403.47%，环比+36.41%。公司是国内半导体设备龙头，技术领先，发展潜力较大。我们维持盈利预测，2022-2024年归母净利润预计为11.63/13.60/16.15亿元，EPS预计为1.89/2.21/2.62元，当前股价对应PE为76.2/65.1/54.9倍，维持“买入”评级。 公司订单饱满，成长动力充足 公司2022H1新签订单金额同比增长61.83% 达到30.57亿元，在手订单充足，2022H1合同负债达15.94亿元。CCP：在部分客户市场占有率已进入前三位，取得5nm及以下客户的重复订单，在64层、128层及更高层数3D NAND产线得到广泛应用，在动态存储器的应用已经取得批量订单。2021年推出首台用于8寸晶圆的CCP设备，2022H1在国内多家客户累计收到超30腔订单。ICP：Primo nanova?已在超15家客户产线上进行100多个工艺的验证，截止2022H1已交付超220台反应腔。公司2021年推出了具有高输出率特点的双反应台ICP刻蚀设备，已在国内领先的客户生产线上完成认证，订单数量持续增加。应用ICP技术的深硅刻蚀设备在先进系统封装、2.5维封装和MEMS产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单，开始在3D芯片等市场上验证。MOCVD：用于高性能Mini LED量产的MOCVD设备，累计已收到订单合计180腔。公司正开发Micro LED的MOCVD设备，氮化镓功率器件应用的MOCVD设备已交付客户验证，启动了应用于SiC功率器件外延生产设备的开发。钨填充CVD设备正在量产验证，EPI已进入样机的制造调试阶段。南昌基地已部分完工，部分洁净室于7月试生产；临港基地建设也已大部分封顶，2023年初可部分投入使用，公司成长动力充足。 风险提示：下游晶圆厂扩产进度不及预期；新品研发、验证进度不及预期等。

上半年营收同比增长47%达19.7亿元，扣非归母净利润同比增长615%达4.4亿元，新签订单同比增长约62%达30.6亿元。二季度单季营收10.2亿元，扣非归母净利润同比增长4倍以上至2.5亿元以上。上半年的人均年化营收高达350万元。公司设备至6月底累计付运台数达2654个反应台，已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及更先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。 刻蚀设备持续高增长：上半年刻蚀设备收入为12.99亿元，同比增长51%，毛利率46.05%，其中CCP刻蚀设备收入同比增长14%至8.86亿元，ICP刻蚀设备收入同比增长414%至4.13亿元，出货量也高速增长。PrimoNanovaICP刻蚀产品已在超过15家客户的生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3DNAND芯片、DRAM芯片及逻辑芯片。截止6月底，PrimoNanova已经顺利交付超过220台反应腔，且在客户端完成验证的应用数量也在持续增加。 MOCVD受益于Mini/MicroLED及化合物半导体市场增长：上半年MOCVD设备收入为2.41亿元，同比增长10%，毛利率达35.42%。用于MiniLED的MOCVD设备PrismoUniMax取得180台的客户订单，制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD设备已在客户芯片生产线上验证，制造MicroLED的MOCVD设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中。 薄膜沉积设备研发进展顺利：公司所开发的LPCVD设备能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及64层、128层和200层以上3DNAND中的多个关键应用，已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。公司研发中的ALD能够满足先进存储器件和逻辑器件金属阻挡层的应用，以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。中微正研发的EPI外延设备面向28纳米及以下的逻辑器件、存储器件和功率器件等应用，已进入样机的制造和调试阶段。 大规模扩建提供高增长保障：公司南昌约14万平方米的生产和研发基地已部分完工，部分生产洁净室于7月投入试生产，上海临港约18万平方米的生产和研发基地建设也已大部分封顶，上海临港滴水湖畔约10万平方米的研发中心暨总部大楼也在顺利建设。中微厂房面积在未来一两年可以扩大十几倍，为持续高增长提供保障。 我们维持22-24年公司每股收益预测分别为1.58、2.23、3.11元，采用绝对估值法（FCFF），维持目标价172.28元，维持买入评级。 风险提示刻蚀设备国产化进度不及预期；半导体设备行业景气度不及预期；MiniLED需求不及预期；政府补助下滑风险；零部件断供风险。

8月10日，中微公司发布2022年中报。公司2022年H1实现收入19.72亿元，同比增长47.30%；实现归母净利润4.68亿元，同比增长17.94%；实现扣非净利润4.41亿元，同比增长615.26%。 盈利释放，扣非接近预告上限。尽管有上海地区疫情影响，公司仍在1H22实现了收入19.72亿元，同比增长47.30%，包括刻蚀设备12.99亿元，同比增长51.48%；MOCVD设备2.41亿元，同比增长9.90%。 利润端表现更为亮眼，公司1H22毛利率达45.36%，同比提升3pct，其中刻蚀设备毛利率达46.05%，较2021年提升2pct；MOCVD设备毛利率达35.42%，较2021年提升2pct。得益于此，公司上半年实现扣非净利润4.41亿元，同比增长615.26%，接近前期预告（4.1-4.5亿元）上限，扣非净利率达22.36%，同比提升18pct，较2021年全年水平提升12pct。 ICP收入放量，MOCVD收入释放，在手订单维持高增。作为国内刻蚀设备龙头，公司在维持CCP刻蚀领先地位，市场占有率不断提升，在一些主要客户的生产线上已达到30%以上份额，同时ICP刻蚀亦实现收入放量。1H22实现ICP设备收入4.13亿元，同比增长414.08%；CCP设备收入8.86亿元，同比增长13.98%。MOCVD设备方面，公司前期推出的用于miniLED生产的MOCVD设备已获得180台的客户订单，并在Q2起逐渐兑现收入。截至中报，公司共计新签订单30.57亿元，同比增长61.83%，维持了较高增速。 多种在研新品蓄势待发。1）刻蚀：公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。此外应客户的技术发展需求，公司亦在进行更高工艺节点的刻蚀设备开发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和200层以上的3DNAND芯片等产品的刻蚀需求。2）LPCVD：公司新开发的LPCVD设备可用于逻辑器件接触孔填充及3DNAND中多个节点，已经通过关键客户工艺验证。用于金属阻挡层和金属栅极制造的ALD设备也在积极推进中。3）EPI：用于28nm以下制程锗硅外延生长工艺的EPI设备研发顺利，已进入样机制造和调试阶段。4）MOCVD：制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD设备已在客户产线上验证；制造MicroLED应用的新型MOCVD设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中。多种新产品顺利推进之下，我们看好公司在刻蚀/薄膜两大设备领域的平台化延伸和长线成长。 投资建议：我们预计公司2022-2024年营收分别为47.23/63.82/86.31亿元，对应现价PS分别为19/14/10倍，考虑到公司作为国内半导体设备龙头的市场地位，有望享受下游扩产和国产化红利，维持“推荐”评级。 风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。

事件：公司于8月10日发布2022年半年度业绩报告。2022H1公司实现营收19.72亿元，同比增长约47.30%；归母净利润4.68亿元，同比增长17.94%；扣非后净利润4.41亿元，同比增长615.26%；基本每股收益0.76元。 新签订单超30亿元，核心业务保持高速、稳定增长受益于设备市场发展及公司产品竞争优势，上半年公司营业收入实现同比增长47.30%至19.72亿元；新签订单同比增长61.83%至30.57亿元。分业务来看，上半年公司核心业务均维持高速、稳定增长；公司CCP刻蚀设备收入同比增长13.98%至8.86亿元，ICP刻蚀设备收入同比增长414.08%至4.13亿元，MOCVD设备收入同比增长9.90%至2.41亿元。从毛利率来看，公司上半年毛利率为45.36%（同比+3.02pct），其中刻蚀设备毛利率为46.05%，MOCVD设备毛利率为35.42%（同比+4.65pct）。从期间费用率来看，各项费用率均有所下降，盈利能力逐渐改善；上半年销售费用率、管理费用率、财务费用率分别为8.72%/5.19%/-5.18%，分别下降2.28/2.66/4.67pct。 重视创新&差异化，新品类拓展顺利公司重视核心技术的创新，始终保持高强度研发投入；上半年研发费用投入3.03亿元，同比增长80.54%，研发费用率为15.38%，同比增长2.84pct。 在现有刻蚀设备、MOCVD设备基础上，公司目前正在研发满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和200层以上的3D NAND芯片等产品的刻蚀需求的高端刻蚀设备以及满足Micro LED应用的MOCVD设备。此外，公司的LPCVD设备目前已通过关键客户验证，正在积极推进量产验证；EPI设备研发进展顺利，已进入样机制造和调试阶段。 盈利预测、估值与评级预计公司2022-2024年收入分别为45.24/60.61/78.89亿元，对应增速分别为45.55%/33.99%/30.15% ， 三年CAGR 为36.41% ； 归母净利润分别为10.82/13.66/17.29亿元，对应增速分别为6.99%/26.19%/26.59%，三年CAGR为19.56%。考虑到公司是国内刻蚀设备龙头且已成为半导体设备平台公司，维持“增持”评级。 风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期；新品研发、验证进度不及预期等。

事件：公司发布2022年中报。2022H1公司实现营业收入19.72亿元，同比+47.30%；；实现扣非润归母净利润4.41亿元，同比+615.26%。 ICP刻蚀设备快速放量，驱动收入端延续高速增长2022H1公司实现营业收入19.72亿元，同比+47%；其中Q2实现营业收入10.23亿元，同比+39%。在上海疫情不利影响下，公司收入端延续高速增长，表现优异。分产品来看：1）刻蚀设备：2022H1实现收入12.99亿元，同比+51%。其中CCP收入为8.86亿元，同比+14%，在刻蚀设备中收入占比为68%，同比-22pct；ICP收入为4.13亿元，同比+414%，在刻蚀设备中收入占比为32%，同比+22pct，ICP刻蚀设备新品快速放量。2）MOCVD：2022H1实现收入2.41亿元，同比+10%，仍取得小幅增长，我们判断主要受益于新签MiniLEDMOCVD设备订单陆续确认收入。晶圆产能东移背景下，本土半导体设备行业景气度依旧较高。截至2022H1末，公司合同负债为15.94亿元，同比+268%；存货为24.87亿元，同比+74%。在2021年新增订单为41.29亿元，同比+90%的高基数背景下，2022H1公司新签订单达到30.6亿元，同比增长62%。公司在手订单饱满，随着疫情好转后加速交付，2022全年收入端有望延续高速增长。 毛利率明显提升&费用率大幅下降，扣非销售净利率同比+18pct2022H1公司归母净利润和扣非归母净利润分别为4.68和4.41亿元，分别同比+18%和+615%；销售净利率和扣非销售净利率分别为23.66%和22.35%，分别同比-5.96pct和+17.75pct，真实盈利水平大幅提升。1）毛利端：2022H1公司销售毛利率为45.36%，同比+3.02pct，其中刻蚀设备和MOCVD设备毛利率分别为46.05%和35.42%，同比+1.76pct和+4.65pct，我们判断主要受益于产品结构优化、规模化降本等。MOCVD设备毛利率大幅提升，我们判断主要系高毛利的MiniLED行业新签订单收入占比提升所致。2）费用端：2022H1公司期间费用率为24.11%，同比-6.77pct，其中销售、管理、研发和财务费用率分别同比-2.28、-2.66、+2.83和-4.66pct，规模效应彰显，是真实盈利水平提升的主要驱动力。特别地，2022H1公司研发费用率大幅提升，主要系费用化研发投入占比提升所致。2022H1公司研发投入合计3.46亿元，在总营收中占比为17.56%，同比-3.84pct，其中研发投入资本化的比重为11.1%，同比-5.9pct。3）2022H1公司非经常性损益同比减少3.08亿元，其中计入非经常性损益的政府补助同比减少2.03亿元，同时由于持有的中芯国际和天岳先进股价下降，2022H1公司因股权投资产生的公允价值变动收益同比减少1.77亿元，进而明显影响归母净利润表现。 积极持续推进新品研发，新基地建设打开成长空间①公司在巩固现有产品竞争优势同时，积极推进新产研发，打开市场空间。①CCP设备：积极与主流客户合作，定义下一代CCP刻蚀机的主要功能及技术指标，持续提升市占率。②②ICP设备：PrimonanovaICP刻蚀产品已在超过15家客户生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3DNAND、DRAM和逻辑芯片，并持续获得国际先进3DNAND客户批量订单。③MOCVD设备：积极布局第三代半导体设备，开发GaN功率器件量产应用的MOCVD设备，已交付国内外领先客户进行生产验证。④薄膜沉积设备：基于金属钨CVD设备，公司正进一步开发CVD和ALD，实现更高深宽比和更小关键尺寸结构填充，同时外延设备（EPI）研发进展顺利，已经进入样机制造和调试阶段。在产能方面，2021年公司连续启动南昌、临港产业基地、临港研发暨总部等建设项目，随着产能加速释放，为公司中长期高速增长奠定基础。 盈利预测与投资评级：考虑到公司在手订单饱满，下半年有望加速交付，我们维持2022-2024年营业收入预测分别为45.31、61.52和78.87亿元，当前市值对应动态PS分别为20、14、11倍。基于公司较高的成长性，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期。

事件：公司于7月6日发布2022年半年度业绩预告。公司预计2022年半年度实现营收19.7亿元，同比增长约47.1%；新增订单约30.6亿元，同比增长约62%。 公司预计将实现归母净利润4.2-4.8亿元，同比增长5.89%-21.02%；实现扣非后净利润4.1-4.5亿元，同比增长565.42%-630.34%。 业绩持续高增长，盈利能力大幅改善2016-2021年公司营业收入持续增长，从6.1亿元增至31.08亿元，CAGR达38.52%。公司新产品与新客户持续拓展，刻蚀设备销量提升显著且持续。 公司2022年上半年实现营收19.7亿元，同比增长47.1%；新增订单30.6亿元，同比增长约62%；实现扣非后净利润4.1-4.5亿元，同比增长5-6倍。单季度来看，公司预计22Q2实现营收10.21亿元，同比增长38.91%，环比增长7.59%；预计扣非后净利润2.24-2.64亿元，同比增长339%-418%，环比增长20.43%-41.94%。Q2业绩预告扣非后净利率为21.94%-25.86%，同比增加15pct-18.92pct，环比增加2.34pct-6.26pct，盈利能力持续提高。 刻蚀、MOCVD设备地位稳固，持续开拓新品打造平台公司公司CCP设备已批量应用于国内外一线客户的集成电路生产线,并持续提升市场占有率,在部分客户市场占有率已进入前三位甚至前二位；同时公司预计可以覆盖75%的MOCVD设备市场，Mini-LED等新市场设备研发进展顺利。 此外，公司已经组建团队开发LPCVD设备和EPI设备，并在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，打造半导体平台公司，前景可期。 盈利预测、估值与评级预计公司2022-2024年收入分别为45.24/60.61/78.89亿元，对应增速分别为45.55%/33.99%/30.15%，三年CAGR为36.41%。根据DCF估值，公司合理股价为106.15-188.16元；行业可比公司平均PS为17倍，考虑到公司是国内刻蚀设备龙头，并逐渐成为半导体设备平台公司，我们给予公司2022年20倍PS，目标价146.82元，维持“增持”评级。 风险提示：下游晶圆厂扩产进度不及预期；原材料采购受限；新品研发、

中微公司发布第一次2022年中报业绩预告，预计2022年半年度营业收入约19.7 亿元，同比增长约47.1%；实现归母净利润4.2 - 4.8 亿元，同比增加5.89% - 21.02%。 扣非后净利润显著提升。受益于上海疫情好转、设备市场发展以及公司产品竞争优势，公司2022 年上半年的营业收入和毛利同比均有大幅增长。2022年上半年预计实现扣非后净利润4.1 - 4.5 亿元，同比增加565.42% - 630.34%。 在手订单饱满，22 H1新增订单金额约为21年全年营收。2022年上半年新增订单金额约30.6 亿元，同比增长约62%，略低于2021年营业收入31.08亿元。公司等离子体刻蚀设备和薄膜设备已有超过2300 个反应腔在亚洲、欧洲等70 多条集成电路和微器件生产线实现大规模量产。其中，CCP 等离子体刻蚀设备产品已用于5 nm 先进制程生产线和下一代的试生产线，市场占有率持续提升；ICP 刻蚀设备2021 年付运超过130 腔，同比增长超过230%，并在2022年保持高增速。 独创双反应台高产出率技术，研发能力保持领先。与海外的单反应台相比，公司独创的双反应台在节约材料成本、提高生产效率等方面具有优势。2021年，公司研发投入7.28亿元，同比增长13.76%，占营业收入的23.42%。刻蚀设备方面，公司目前开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5 nm 以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备；其它半导体设备方面，钨填充CVD设备取得阶段性进展，可以满足先进逻辑器件接触孔填充、64层和128层3D NAND中的关键应用，并进一步开发CVD、ALD和ALE设备。 投资建议 预计公司2022-2024年收入分别为44.96/61.47/78.95亿元，同比增长44.6%/36.7%/28.4%，净利润分别为11.03/13.90/16.79亿元，同比增长9.1%/26.0%/20.8%。当前价格对应2022年的PE为71倍。考虑到公司在手订单饱满，维持“买入”评级。 风险提示 新产品研发不及预期，行业竞争加剧，晶圆厂扩产规模不及预期。

事件： 公司发布 2022H1业绩预告，预计 2022年半年度实现营业收入约 19.7亿元，同比增长约 47.1%； 归母净利润为 4.2到 4.8亿元，同比增加 5.89%到 21.02%； 扣非归母净利润为 4.1到 4.5亿元，同比增加565.42%到 630.34%。 扣非归母净利润表现亮眼， 新增订单延续高增长： 2022年上半年，公司营收以及扣非归母净利润同比大增， 主要原因为公司克服了疫情的不利影响，同时受益于设备市场发展以及公司产品竞争优势，公司2022年上半年的业绩同比均有大幅增长。 上半年公司归母净利润同比增速小于扣非归母净利润，主要原因为非经常性收益较上年同期减少约 3.3亿元， 其中政府补助减少以及股权投资产生的公允价值变动收益减少有较大影响。从 Q2单季度来看， 公司实现营收 10.2亿元，环比增长 7%， 归母净利润 3.03亿元-3.63亿元，环比增长 159%-210%。 在订单方面，公司上半年新增订单约 30.6亿元，同比增长约 62%，新签订单延续高增长。 刻蚀设备优势明显，技术实力不断提升： 在刻蚀设备方面， 公司刻蚀设备已应用于全球先进的 7纳米和 5纳米集成电路加工制造生产线。 在存储上，公司电容性等离子体刻蚀设备可应用于 64层和 128层的量产， 正在开发新一代能够涵盖 128层及以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。 另外，公司电感性等离子刻蚀设备快速成长，已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，并在配合客户开发来满足 5纳米以下的逻辑芯片、 1X 纳米的 DRAM芯片和 128层以上的 3D NAND 芯片等产品的 ICP 刻蚀需求，并进行高产出的 ICP 刻蚀设备的研发。 拓展新品打开成长空间： 在 CVD 设备方面， 公司应用于金属互联的CVD 钨制程设备能力已能够满足客户工艺验证的需求，产品正与关键客户对接验证。 另外，公司还组建了 EPI 设备研发团队，通过基础研究和采纳关键客户的技术反馈，已经形成自主知识产权及创新的预处理和外延反应腔的设计方案。此外，公司正在筹划开发 ALD 和 ALE ,等关键设备，未来半导体设备品类有望持续丰富。 投资建议：我们预计公司2022年~2024年收入分别为43.95亿元、61.21亿元、 77.85亿元，归母净利润分别为 11.11亿元、 14.51亿元、 19.30亿元，维持“买入-A”投资评级。 风险提示： 下游需求衰减风险，市场竞争加剧风险， 国产替代不及预期。

1H22扣非净利润同比增长约6倍，经营性盈利能力大幅提高。公司业绩预告预计1H22实现营收约为19.7亿元(YoY 47.1%),其中2Q22约为10.2亿元(YoY38.8%,QoQ 7.6%)；归母净利润4.2-4.8亿元(YoY 5.9%-21.0%),其中2Q22约为3.0-3.6(YoY 17.0%-40.2%,QoQ 158.4%-209.6%)；扣非归母净利润约为4.1-4.5亿元(YoY 565.4%-630.3%),其中2Q22约为2.24-2.64亿元(YoY342.7%-421.9%,QoQ 20.0%-41.4%)，其中政府补助和股权投资产生的非经营性损益分别同比减少约2.1亿和2.0亿元；1H22新增订单约30.6亿元，同比增长约62%。 1Q22刻蚀设备收入同比增长105.0%，设备品类不断扩张。刻蚀设备受益于产品竞争优势及设备市场发展，1Q22单季实现收入7.14亿元(YoY 105.0%)，CCP 刻蚀机批量应用于国内外一线客户的IC 制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位；ICP 刻蚀机在客户端完成验证的应用数量亦在持续增加。此外，在集成电路的薄膜设备领域正在开发LPCVD 设备和EPI 设备，并已取得了良好进展，公司正在筹划开发ALD 和ALE 等关键设备，公司位于南昌和上海临港建设顺利从而保障产能扩充。 全球半导体制造设备市场规模料创新高，本土扩产再提速。SEMI 预计2022年全球前端晶圆厂设备支出将达1090亿美元(YoY 20%)，再创历史新高。近期，华虹半导体、华虹宏力、无锡实体及大基金II 分别出资1.78、2.3、1.6、2.32亿美元增资华虹无锡；广州粤芯宣布完成45亿元人民币战略融资，用于二期90-44nm 制程产线建设；中芯集成(绍兴中芯)科创板IPO 申请获受理，拟募资125亿元人民币投建MEMS 和功率器件芯片制造及封装测试生产基地技术改造项目、二期晶圆制造项目，以及补充流动资金；此前晶合集成科创板IPO 注册获批，拟募资95亿元人民币用于工艺研发及收购厂房等，中芯国际、长江存储、合肥长鑫等本土晶圆厂进入产能密集建设期。 投资建议：本土半导体刻蚀设备龙头，维持“增持”评级。 看好公司在全球半导体晶圆1H22扣非净利润同比增长约6倍，经营性盈利能力大幅提高。公司业绩预告预计1H22实现营收约为19.7亿元(YoY 47.1%),其中2Q22约为10.2亿元(YoY38.8%,QoQ 7.6%)；归母净利润4.2-4.8亿元(YoY 5.9%-21.0%),其中2Q22约为3.0-3.6(YoY 17.0%-40.2%,QoQ 158.4%-209.6%)；扣非归母净利润约为4.1-4.5亿元(YoY 565.4%-630.3%),其中2Q22约为2.24-2.64亿元(YoY342.7%-421.9%,QoQ 20.0%-41.4%)，其中政府补助和股权投资产生的非经营性损益分别同比减少约2.1亿和2.0亿元；1H22新增订单约30.6亿元，同比增长约62%。 1Q22刻蚀设备收入同比增长105.0%，设备品类不断扩张。刻蚀设备受益于产品竞争优势及设备市场发展，1Q22单季实现收入7.14亿元(YoY 105.0%)，CCP 刻蚀机批量应用于国内外一线客户的IC 制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位；ICP 刻蚀机在客户端完成验证的应用数量亦在持续增加。此外，在集成电路的薄膜设备领域正在开发LPCVD 设备和EPI 设备，并已取得了良好进展，公司正在筹划开发ALD 和ALE 等关键设备，公司位于南昌和上海临港建设顺利从而保障产能扩充。 全球半导体制造设备市场规模料创新高，本土扩产再提速。SEMI 预计2022年全球前端晶圆厂设备支出将达1090亿美元(YoY 20%)，再创历史新高。近期，华虹半导体、华虹宏力、无锡实体及大基金II 分别出资1.78、2.3、1.6、2.32亿美元增资华虹无锡；广州粤芯宣布完成45亿元人民币战略融资，用于二期90-44nm 制程产线建设；中芯集成(绍兴中芯)科创板IPO 申请获受理，拟募资125亿元人民币投建MEMS 和功率器件芯片制造及封装测试生产基地技术改造项目、二期晶圆制造项目，以及补充流动资金；此前晶合集成科创板IPO 注册获批，拟募资95亿元人民币用于工艺研发及收购厂房等，中芯国际、长江存储、合肥长鑫等本土晶圆厂进入产能密集建设期。 投资建议：本土半导体刻蚀设备龙头，维持“增持”评级。 看好公司在全球半导体晶圆制造设备市场高景气下业绩成长，预计公司2022-2024年营业收入为45.4、60.8、79.4亿元（前值44.4、59.4、77.4亿元)，归母净利润11.3、15.4、19.6亿元(前值10.1、13.3、16.9亿元），当前股价对应2022-2024年69.2、50.7、39.7倍PE，维持“增持”评级。 风险提示：下游扩产不及预期风险，新产品开发不及预期的风险等。制造设备市场高景气下业绩成长，预计公司2022-2024年营业收入为45.4、60.8、79.4亿元（前值44.4、59.4、77.4亿元)，归母净利润11.3、15.4、19.6亿元(前值10.1、13.3、16.9亿元），当前股价对应2022-2024年69.2、50.7、39.7倍PE，维持“增持”评级。 风险提示：下游扩产不及预期风险，新产品开发不及预期的风险等。