事件：公司公告三季报，2021年前三季度实现营业收入20.73亿元，同比+40.40%；归母净利润5.42亿元，同比+95.66%。2021Q3单季度实现营业收入7.34亿元，同比+47.45%，环比-0.15%；归母净利润1.45亿元，同比-8.02%，环比-43.9%。 投资要点业绩稳定增长，非经常性损益影响较大2021年前三季度公司实现营业收入20.73亿元，同比+40.40%。其中刻蚀设备收入为13.52亿元，同比+99.01%，主要系半导体设备行业景气度持续提升及公司产品竞争力持续加强；MOCVD设备收入为3.04亿元，同比-24.27%，主要系LED设备市场仍呈现下滑态势及公司2021年新签Mii-LEDMOCVD设备规模订单尚未发货所致。公司实现归母净利润5.42亿元，同比+95.66%，其中非经常性损益约3.77亿元，包括2.57亿元的政府补助和1.73亿元的投资收益等。扣非归母净利润为1.65亿元，同比增加约2.10亿元，主要系2020年前三季度开发支出所形成的无形资产摊销计入营业成本后形成亏损。2021Q3单季度来看，公司实现营业收入7.34亿元，同比+47.45%，环比-0.15%，其中刻蚀设备收入为4.94亿元，同比+132.43%，MOCVD设备收入为0.84亿元，同比-46.29%；归母净利润1.45亿元，同比-8.02%，环比-43.9%，主要系公司间接持有的中芯国际股票股价变动带来Q3亏损0.14亿元，而2020Q3收益1.56亿元；扣非归母净利润1.03亿元，同比增长1.89亿元，主要系2020Q3开发支出计入成本导致亏损0.86亿元。 盈利能力持续提升，控费能力优异2021Q1-Q3公司综合毛利率42.68%，同比+7.9pct，其中刻蚀设备毛利率达43.97%，MOCVD设备毛利率达32.21%；净利率为26.13%，同比+7.4pct；扣非净利率为7.96%，相较于去年同期的-3.08%增长11.04pct。公司期间费用率为27.92%，同比-4.1pct，Q3单季度来看，毛利率43.31%，同比+6.85pct，环比-0.19pct；净利率19.77%，同比-11.95pct，环比-15.43pct；扣非净利率为14.03%，相较去年同期的-17.27%增长31.3pct；期间费用率为22.52%，同比-15.86pct，环比-6.86pct。 新签订单充足，合同负债&存货高增截至2021Q3末，公司合同负债为8.93亿元，同比+76.75%；存货为16.58亿元，同比+38.11%，主要系公司新签订单充足，2021年1-9月新签订单金额达35.2亿元，同比+110%。 盈利预测与投资评级：根据公司收入确认节奏，我们将公司2021-2023年的净利润从9.33/11.29/13.54亿元下调至7.31（下调22%）/9.95（下调12%）/12.34（下调9%），对应PE分别为132/97/78倍；公司是晶圆制造环节唯一进入全球龙头晶圆厂供应链的国产设备商，技术水平达到5m先进制程，享有龙头的估值溢价，维持“增持”评级。 风险提示：晶圆厂投产不及市场预期，新品研发不及市场预期

一、事件概述 2021/10/27公司发布21年三季报，前三季度实现营收20.73亿元，归母净利润5.42亿元。 二、分析与判断 Q3单季度业绩受股权投资拖累，实际经营业绩大幅增长 1）前三季度：实现营收20.73亿元，同比+40.4%，归母净利润5.42亿元，同比+95.66%，扣非归母净利润1.65亿元，去年同期亏损0.45亿元。同期股权支付费用为1.83亿元，去年同期为0.61亿元，扣除此影响，归母净利润为3.48亿元，同比+2075%。同期投资收益和公允价值变动互相抵消。前三季度，毛利率42.68%，同比+7.9pct，净利率26.13%，同比+7.37pct。2）Q3单季度：实现营收7.34亿元，同比+47.45%，归母净利润1.45亿元，同比-8.02%，环比-44.02%，扣非归母净利润1.03亿，去年同期亏损0.86亿，环比+101.96%。归母净利润主要受投资中芯国际股票影响，去年同期相关收益为1.56亿元，今年亏损0.14亿元，不考虑此影响，公司归母净利润同比大幅增长7850%。同期毛利率43.31%，同比+6.85pct，环比-0.19pct，净利率19.77%，同比-11.95pct，环比-15.43pct。 刻蚀设备营收翻倍，MOCVD毛利率大幅度改善 前三季度刻蚀设备营收13.52亿元，同比+99%，毛利率43.97%。Q3单季度营收4.94亿元，同比+132%。前三季度MOCVD营收3.04亿元，同比-24%，主要受下游景气度及今年新签mini订单尚未发货影响。毛利率32.21%，同比大幅度提升，相较今年上半年提高1.44pct。Q3单季度营收0.84亿元，同比-46%。持续关注下游新兴市场mini led、GaN/SiC化合物半导体扩产情况及公司订单确认情况。 Q3单季度合同负债环比翻倍，新签订单大幅增长 公司公告，合同负债21Q1/Q2/Q3分别为4.58/4.33/8.93亿元，Q3单季环比翻倍。前三季度新签订单35.2亿元，同比超过110%，H1新签订单为18.89亿，Q3单季度为16.31亿，增幅显著。印证公司产品需求旺盛，增长潜力充足。 三、投资建议 预计21-23年公司归母净利润分别为7.1/8.5/10.5亿元，对应估值分别为157/132/107倍，考虑设备环节国产化率低、未来业绩弹性高，维持“推荐”评级。 四、风险提示： 募投项目产能扩张不及预期，MiniLED起量不及预期。

前3 季度扣非归母净利润同比扭亏为盈，好于市场预期2021 年前3 季度营收20.73 亿元（YoY 40%），归母净利润5.42 亿元（YoY 96%），扣非归母净利润1.65 亿元（YoY 扭亏为赢）。单季度3Q21 营收7.34 亿元（YoY 47%，QoQ 0%），归母净利润1.45 亿元（YoY- 8%，QoQ -44%），扣非归母净利润1.03 亿元（YoY 扭亏为盈，QoQ 105%）。受益于半导体设备需求旺盛及公司产品竞争优势，公司营收及扣非净利润均显现较快增长。 刻蚀设备优势突出，营收规模快速增长2021 年前3 季度，刻蚀设备收入为13.52 亿元（YoY 99%），毛利率为43.97%，MOCVD 设备实现营收3.04 亿元（YoY -24%），毛利率为32.21%。单季度3Q21 刻蚀设备实现营收4.94 亿元（YoY 132%），测算毛利率约为43.41%(1H21 为44.29%)，MOCVD 设备实现营收0.84 亿元（YoY-46%），测算毛利率约为35.16%(1H21 为30.77%)，公司刻蚀设备竞争优势突出，公司刻蚀设备营收同比较快增长。 国内外晶圆厂扩产加速，设备需求显现旺盛2021 年以来国内外晶圆厂纷纷扩产加速，快速拉动对公司设备需求。 10 月14 日公司重要客户台积电宣布今年资本开支从250 亿~280 亿美元区间上调至300 亿美元，而去年仅为170 亿美元。9 月公司另一重要客户中芯国际也再次宣布将在深圳投建12 英寸晶圆4 万片的月产能，这是自2020 年7 月以来，中芯国际第三次宣布新扩产线项目，三个项目累积将扩产24 万片/月（12 英寸），相当于公司截至1H21 总产能的96.2%（折合八寸约当晶圆）。 半导体刻蚀设备龙头，维持“增持”评级公司3 季报表现出色，上调2021~2023 年盈利预测，预计归母净利润分别6.87/8.05/9.80 亿元（原值为5.57/7.34/9.73 亿元），对应PE 分别为 135/115/95 倍，维持“增持”评级。 风险提示产品销售不及预期；市场竞争加剧；国家政策变动。

2021年10月27日，中微公司发布三季报，前三季度公司实现营收 20.73亿元，同比增长40.4%；实现归母净利润5.42亿元，同比增长95.66%。对应第三季度营收7.34亿元，同比增长47.45%；归母净利润1.45亿元，同比下降8.02%。 点评： 扣非净利高增，毛利率维持高位。第三季度公司实现营收7.34亿元，同比增长47.45%，环比下降0.15%；实现归母净利1.45亿元，同比下降8.02%，环比下降43.90%，主要由于公允价值变动损益影响，SMIC 等投资标的股价波动导致本季度公允价值变动损失1.16亿元。若看扣非净利，三季度达到1.03亿元，同比增长220.61%，环比增长104.55%。此外，由于刻蚀设备收入占比提升，公司三季度毛利率维持高位，同比增长7pct 至43.31%。 MOCVD 大额订单落地，收入高增可期。三季度MOCVD 设备收入0.84亿元，同比下降46%，环比基本持平。但年中推出用于miniLED 的新款MOCVD 设备已获得下游客户大额订单，三季度合同负债高达8.93亿元，较中报增加4.6亿元，均为MOCVD 贡献（刻蚀设备没有预收款）。从订单金额上亦有体现，前三季度公司新签署订单35.2亿元，对应本季度新增16.58亿元，环比增幅可观。 刻蚀设备领跑者，薄膜设备落地在即。三季度刻蚀设备收入4.94亿元，同比增长132%，环比下降3%，受收入确认节奏影响，三季报存货增加2.26亿元至16.58亿元，主要构成为已发出商品，有望在四季度兑现业绩。公司作为国内CCP 设备领军者，在长江存储等本土逻辑芯片晶圆厂产线份额达35%，存储厂份额更高，展望明年，国产线加速落地将为公司带来进一步增长的设备需求，而在研的薄膜设备（EPI、LPCVD）亦有望于明年推出。 投资建议：我们预计公司2021/22/23年，营收分别为30.74/44.54/61.97亿元，归母净利润分别为6.51/8.03/10.62亿元，对应当前股价PS 分别为41/30/21倍。公司作为半导体设备行业的龙头公司，随着设备技术的不断突破，具备较强的国产替代确定性，市占率有望持续提升，维持“买入”评级。 风险因素：行业周期性波动风险；下游客户扩产不及预期风险；国际贸易摩擦风险。

事件：2021年10月 27日，公司发布三季报业绩，前三季度公司实现营业收入20.73亿元，同比增长40.40%；实现归母净利润5.42亿元，同比增长95.66%；实现扣非归母净利润1.65亿元，同比增长462.69%。单Q3，实现营收7.34亿元，同比增长47.45%；实现归母净利润1.45亿元，同比增速-8.02%；实现扣非归母净利润1.03亿元，同比增长220.61%。 业绩符合预期，2021新签订单翻倍增长公司前三季度实现营收20.73亿元，同比增长40.40%，其中专用设备实现营收16.56亿元，占比79.88%。专用设备分种类来看：1）刻蚀设备：收入13.52亿元，同比增长99.01%，毛利率43.97%，刻蚀设备高增长与高毛利主要得益于：半导体设备市场发展与公司在等离子刻蚀设备领域产品竞争优势显著。2）MOCVD 设备：收入3.04亿元，同比下降24.27%，收入下滑主要系照明LED 市场趋于饱和，行业需求下滑，同时本年新签署的Mini-LED MOCVD 设备规模订单尚未发货；但该业务毛利率达32.21%，较去年同期大幅提升，预期随着Mini-LED、Micro-LED、功率器件以及深紫外LED 等产品应用，有望刺激MOCVD 设备需求。从订单来看，2021年1-9月公司新签订单金额达35.2亿元，同比增长110%。 毛利率提升明显，拉动利润端高速增长公司前三季度销售毛利率42.68%，同比增长7.9pct，主要系刻蚀设备、MOCVD 等产品毛利率均有所提升；销售净利率26.13，同比增长7.37pct；扣非后销售净利率7.96%，同比增长11.04pct。 公司前三季度归母净利润5.42亿元，同比增长95.66%，归母净利润增速超过营收增速，主要系毛利率大幅提升，拉动利润端高速增长。单Q3，公司归母净利润1.45亿元，同比增速-8.02%，主要系间接持有中芯国际股票下跌所致。公司前三季度扣非后归母净利润为1.65亿元，较去年同期增长2.10亿元。 大陆晶圆厂产能快速扩充，国产设备加速进场“缺芯潮”背景下，全球晶圆厂不断扩充产能、新建产线当下正处于半导体设备“move in”的高峰期。根据SEMI 预测，2021年全球半导体制造商将启动建置19座晶圆厂，2022年另建10座，以满足市场对芯片不断增加的要求，这29座晶圆厂设备支出预计将超1400亿美元。根据ICInsights 预计2022年中国大陆晶圆厂产能将达410万片/月，占全球产能17.15%。根据招标网数据显示，8月以来中芯国际、华虹半导体、长江存储等新增多项设备招标，在供应链安全带来的国产化浪潮中，国产半导体设备加速入场，步入黄金发展期。 投资建议2021-2023年，公司归母净利润分别为6.03亿、8.21亿、11.65亿，同比增速分别为22.6%、36.1%、41.9%，公司EPS 分别为0.98/1.33/1.89元，对应PE 153.80/112.99/79.64X。维持“买入”评级。 风险提示下游晶圆厂资本开支不及预期，行业竞争加剧、全球贸易摩擦深化带来半导体全产业不确定性。

国内介质刻蚀设备和 MOCVD 设备双龙头，受益国产替代加速：中微公司成立于 2004年,主要从事半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，主要产品包括刻蚀设备、MOCVD 设备，公司 2020年收入和净利润分别为 22.7和4.9亿元，2017-2020年归母净利润 CAGR 高达 154.07%。刻蚀设备方面，根据 Gartner 数据，2020年全球干法刻蚀设备行业市场集中度较高，国际厂商占主导地位，CR3达到 90.24%，中微公司全球市场份额为 1.37%，为国内干法刻蚀设备龙头，目前刻蚀设备国产化进程加快，在国内新建产线中，刻蚀设备国产化率显著提高。根据亚化咨询数据，截至 2020年 12月 16日，中微公司在长江存储、华虹六厂刻蚀设备招标项目中为国产第一大刻蚀设备供应商，占比分别为 14%、19%。预计随着刻蚀设备国产替代进程加快，中微公司刻蚀设备市场占有率将进一步提升。我们预计中微 21-23年刻蚀设备业务收入分别为 19.65、27.03、36.93亿元，同比分别为 52.41%、37.55%、36.60%。 传统 LED MOCVD 设备业务迎来拐点，Mini-LED MOCVD 设备有望成为新的增长点：受下游照明市场需求下降影响，公司传统 LED MOCVD 设备业务收入有所下降，随着照明市场下游景气度提升，传统 LED MOCVD 设备业务有望回暖。同时，Mini/Micro LED 市场潜力巨大，根据 Arizton 数据，预计 2024年市场规模将达到 23.2亿美元，2020-2024年 CAGR 达 148.5%。公司 21年 6月正式发布用于高性能 Mini-LED 量产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax，目前该设备在客户端验证良好，有望成为公司 MOCVD 设备业务新的增长点。 外延式发展战略，助力公司长期可持续发展：公司重点布局了刻蚀设备、薄膜沉积设备和测量设备等领域以及其他泛半导体领域设备公司，完成了对拓荆科技（薄膜沉积设备）、中芯国际（Foundry）、睿励科学仪器（检测设备）、理想万里晖（PECVD 设备）、中欣晶圆（晶圆片）、山东天岳（第三代半导体碳化硅材料）、昂坤视觉（光学测量和检测设备）、博日科技（生命科学仪器和试剂）、德龙激光（激光设备）等公司的投资，未来将继续在半导体设备和泛半导体设备领域布局。 盈利预测、估值与评级：我们维持中微公司 2021-2023年的营业收入分别为31.96、43.16、58.38亿元，对应 PS 分别为 30.6x、22.7x、16.8x；维持中微公司 2021-2023年的归母净利润分别为 6.77、7.63、10.59亿元，对应 PE分别为 144x、128x、92x。考虑到国产化验证加速和晶圆厂不断扩张，我们维持“买入”评级。 风险提示：下游客户扩展不及预期、国产化进度不及预期风险、新产品推广不及预期。

归母净利润提升明显，新签订单同比增长超70%：公司2021年上半年实现营业收入亿元，同比增长36.8%，主要受益于半导体设备市场发展及公司产品优势；实现归母净利润3.97亿元，同比增长233.6%，主要由于营业收入和毛利率共同增长，公允价值变动损益 1.71亿元（公司间接持有中芯国际科创板股票以及其他非上市公司股权投资）及政府补助同去年增加1.44亿元；实现扣非归母净利润0.62亿元，同比增长53.4%。2021年上半年毛利率为42.3%，同比增长8.42pct。 2021年上半年新签订单金额达 18.89亿元，同比增长超过 70%，且有部分 Mini-LED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段。 CCP 设备向更先进工艺突破，ICP 进入高速发展阶段：上半年刻蚀设备收入8.58亿元，同比增长83.8%，毛利率44.3%；2季度刻蚀设备收入5.1亿元，同比增长100.5%，环比增长46.6%。公司CCP刻蚀设备产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，在部分客户市场占有率已进入前三位。在先进逻辑电路方面，成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。公司正配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。公司ICP 刻蚀设备Primo nanova 产品在10家客户的生产线上进行验证，已有超过70个工艺在客户的生产线上达到指标要求，截止2021年6月已经完成100台反应腔交付；双反应台ICP 设备Primo Twin-Star已经在客户端完成认证，并收到来自国内领先客户的订单。公司正在进行下一代产品的技术研发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X 纳米的DRAM 芯片和128层以上的3D NAND 芯片等产品的ICP 刻蚀需求，并进行高产出的ICP 刻蚀设备的研发。 MOCVD设备毛利大幅提升，看好Mini-LED新机会：上半年 MOCVD设备收入2.19亿，同比下降10.08%，主要受下游市场原因，但公司毛利率达到 30.77%，较去年大幅提升。公司上半年正式发布用于高性能Mini-LED 量产的MOCVD 设备Prismo UniMax，通过石墨盘晶片排布的最优化，其加工容量可以延伸到生长164片4英寸或72片6英寸外延片。已收到来自国内领先客户的批量订单。同时，正在与更多客户合作进行设备评估。 维持“增持”评级。考虑到公司新签订单金额同比大幅增长，刻蚀设备快速突破，Mini-LED 行业面临新机会，预计公司2021-2023年营业收入分别为31.69亿元、44.86亿元、62.67亿元，归母净利润分别为6.19亿元、8.37亿元、11.05亿元，维持“增持”评级。 风险提示：半导体行业发展不及预期、我国大陆半导体设备进口替代需求不及预期、新产品研发进程不及预期，客户拓展不及预期。

事件：2021年8月 25日，公司发布中报业绩，上半年公司实现营业收入13.39亿元，同比增长36.8%；实现归母净利润3.97亿元，同比增长233.2%；实现扣非归母净利润0.62亿元，同比增长53.35%。单Q2，实现营收7.35亿元，同比增长29.95%；实现归母净利润2.58亿元，同比增长178.88%；实现扣非归母净利润0.51亿元，同比增长8.93%。 业绩符合预期，等离子刻蚀设备营收大幅增长，MOCVD 设备蓄势待发公司上半年实现营收13.39亿元，同比增长36.8%，其中专用设备实现营收10.77亿元，yoy+51.62%，占比80.47%；备品备件实现营收2.47亿元，yoy-2.88%，占比18.47%。专用设备分种类来看：1）刻蚀设备：收入8.58亿元，同比增长83.79%，刻蚀设备高增长主要得益于：①全球设备市场高速增长，SEMI 预测2021年全球半导体设备市场规模将增长12%达797亿美元。②在前道细分设备价值占比方面，微观加工器件不断缩小推动了器件结构和工艺制程的革命性变化，存储器件从2D 到3D 的转换使得等离子刻蚀和薄膜工艺成为最关键的步骤，刻蚀设备的需求量大幅增加，市场规模的增长速度远高于其他设备。③公司在等离子刻蚀设备领域产品竞争优势显著，加速领跑国产替代进程。2）MOCVD 设备：收入2.19亿元，同比下降10.1%，收入下滑主要系照明LED 市场趋于饱和，近期MOCVD 市场处于低潮；但Mini-LED、Micro-LED、功率器件以及深紫外LED 正处于大爆发前夕，将会推动MOCVD 设备形成新的发展浪潮。 公司上半年归母净利润3.97亿元，同比增长233.2%，归母净利润增速超过营收增速，主要系公允价值变动及政府补助等因素带来非经常性损益合计3.35亿元。实现扣非归母净利润0.62亿元，同比增长53.35%。 刻蚀设备&MOCVD 设备不断推陈出新，产品体系日益健全公司产品体系日益健全，现有产品中刻蚀领域CCP 设备优势稳固，ICP设备加速放量，MOCVD 领域不断推陈出新，下游认证顺利。 （1）等离子刻蚀机方面。①公司CCP 刻蚀设备产品保持竞争优势，多款产品批量以用于国内外一线客户集成电路加工制造生产线，并持续提升市占率，在部分客户市场占有率已进入前三位。逻辑电路领域，公司成功取得5nm 及以下逻辑电路产线的重复订单。存储器领域，公司刻蚀设备在64层及128层3D NAND 的生产线得到广泛应用，重复订单稳步增长，同时积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。②ICP刻蚀设备逐步趋于成熟，Primo Nanova?产品在 10家客户的生产线上进行验证，已有超过 70个工艺在客户的生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围。2021年6月，公司ICP 设备 Primo Nanova?第100台反应腔顺利交付，经过客户验证的应用数量也在持续增加。 （2）MOCVD 设备方面：报告期内公司正式发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD 设备Prismo UniMaxTM，专为高量产而设计，具有业内领先的加工容量，目前已收到国内领先客户的批量订单。 践行外延式发展策略，加速平台化进程公司积极探索相关领域的投资机会，公司通过参与投资沈阳拓荆、山东天岳、德龙激光等项目拓展薄膜设备、碳化硅衬底材料、激光切割等领域，运营情况均表现良好，并已申报科创板上市获受理。报告期内，公司完成对睿励仪器的增资，进一步巩固产业链协同效应，完善光学检测领域业务布局。未来，公司将从刻蚀设备延伸到化学薄膜、检测等其他IC 关键设备领域；扩展在泛半导体领域设备的应用，如显示，MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备，同时将利用核心技术能力探索其他新兴领域，最终实现集成电路设备、泛半导体设备、非半导体设备领域的三维成长。 投资建议2021-2023年，公司归母净利润分别为6.03亿、8.21亿、11.65亿，同比增速分别为22.6%、36.1%、41.9%，公司EPS 分别为0.98/1.33/1.89元，对应PE 175.83/129.17/91.05X。首次覆盖，给予“买入”评级。 风险提示下游晶圆厂资本开支不及预期，行业竞争加剧、全球贸易摩擦深化带来半导体全产业不确定性。

刻蚀设备收入增长 84%，公司新签订单增速均超 70%[Table_Summar y] 公司发布 2021半年报，实现营业收入 13.39亿元，同比增长 36.82%，归属于上市公司股东净利润 3.97亿元，同比增长 233.17%，归属于上市公司股东扣非净利润为 0.62亿元，同比增长 53.35%。EPS 为 0.74元/股，同比增长 236.36%。毛利率为 42.34%，比上年同期上升 8.42个百分点。 支撑评级的要点刻蚀设备销售带动营收高速增长。2021上半年，公司实现营业收入 13.39亿元，同比增长 36.82%，其中，刻蚀设备收入为 8.58亿元，同比增长83.79%；而 MOCVD 设备收入为 2.19亿元，同比下滑 10.08%。同时，根据Q1的业务数据推算，公司 Q2营业收入为 7.36亿元，环比增长 22.06%，同比增长 30.08%，公司的营收高速增长主要得益于刻蚀设备的销售收入增长，Q2刻蚀设备收入为 5.1亿元，环比增长 46.55%，同比增长 100.56%； 而 Q2的 MOCVD 收入为 0.86亿元，环比下滑 35.34%，同比下滑 48.93%。 毛利率改善致盈利能力大幅提升。2021上半年公司实现归母净利润 3.97亿元，同比增长 233.17%，其中 Q2归母净利润为 2.59亿元，环比增长87.81%，同比增长 178.82%。2021上半年公司毛利率为 42.34%，同比扩大8.42个百分点，分产品来看，刻蚀设备毛利率达 44.29%，MOCVD 设备毛利率 30.77%同比有明显上升。此外，2021上半年公司受到政府补助较上年同期增加约 1.44亿元，及公允价值变动收益 1.71亿元。 上半年新签订单金额同比增长超 70%。公司上半年新签订单金额达 18.89亿元，同比增长 70%以上，相当于 2020年全年营收的 83.11%，且有部分Mini-LED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段。鉴于公司的销售模式为以销定产，公司 2021上半年存货金额比 2020年末存货增长 34.63%，新增订单的转化收入将有力推动公司全年业绩保持高增长。 刻蚀工艺持续推进，研发转化进度加快。公司已开发出 5纳米以下刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。2021年 6月公司 ICP 设备 Primo Nanova? 第 100台反应腔顺利交付，且双反应台 ICP 刻蚀设备 Primo Twin-Star? 也已经在客户端完成认证并收到国内领先客户的订单。公司正开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，涵盖 5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。 2021上半年公司的资本化研发投入比上期增长 90.73%，研发转化进度加快，公司产品的竞争优势将有力推动公司继续稳步增长。 估值鉴于公司新签订单额显著增长，mini-LED MOCVD 设备即将获得批量订单，盈利能力显著提升。预测 2021-23年公司净利润分别为 6.30/8.43/10.79亿元，维持买入评级。 评级面临的主要风险零部件供应紧缺致设备订单交付周期延长；权益工具投资的公允价值变动风险等。 投资摘

事件：8月24日 ，中微公司发布中报，公司 Q2实现营业收入7.35亿元，同比增长29.95%，环比增长21.87%；归母净利2.59亿元，同比增长178.87%，环比增长87.89%；扣非净利0.51亿元，同比增长8.97%，环比增长354.67%。 点评： 中报符合预期，订单饱满，盈利能力提升。二季度公司实现归母净利2.59亿元，同比增长178.87%，排除公允价值变动损益等因素后，实现扣非净利0.51亿元，同比增长8.97%。 二季度公司综合毛利率达43.5%，同比增长9.5pct，环比增长2.6pct，主要得益于高毛利的刻蚀设备占比提升和MOCVD 设备毛利率改善。上半年公司刻蚀设备营收8.58亿元，同比增长83.79%，毛利率44.29%；MOCVD 设备收入2.19元，毛利率达30.77%，较2020年提升11.6pct。 公司在手订单饱满，上半年新签署订单金额达18.89亿元，同比增长超过70%，部分miniLED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段，将成为下半年收入增长的强力保障。同时公司持续高研发投入，上半年研发支出达2.86亿元，占营收比重21.4%。 CCP 领先优势保持，ICP 持续放量。刻蚀是前道工艺的核心环节，占晶圆制造设备价值量24%，为前道价值量最高环节，全球市场空间120亿美元。主流的干法刻蚀工艺包括电容性等离子刻蚀（CCP）和电感性等离子刻蚀（ICP）两种技术路线。 CCP 方面，公司为国内领军者，12英寸高端设备已在台积电等国际龙头晶圆厂5nm 产线上实现量产，5nm 以下用于关键步骤加工的CCP 设备亦已经获得批量订单。3D NAND 制造环节，公司产品可满足128层的量产，大马士革刻蚀、128层以上极高深宽比刻蚀等产品亦在研发中。 ICP 方面，公司产品已趋于成熟。Primo nanova 产品在10家客户产线上验证，超过70个工艺通过验证，6月实现第100台反应腔交付，上半年出货达55台，处于快速上量阶段。 MOCVD 技术升级，迎miniLED 东风。公司用于LED GaN 外延的MOCVD设备在全球市场占据垄断性地位，2018年Q4份额已超过70%。伴随miniLED 商用落地，公司正式发布了用于高性能miniLED 量产的MOCVD设备Prismo UniMax，其加工容量可以延伸到生长164片4英寸或72片6英寸外延片。已收到来自国内龙头客户订单，有望受益下游需求的爆发增长。 投资建议：我们预计公司2021/22/23年，营收分别为32.82/44.80/62.51亿元，归母净利润分别为6.77/7.59/10.56亿元，对应当前股价PE 分别为166/148/106倍，PS 分别为34/25/18倍。公司作为半导体设备行业的龙头公司，随着设备技术的不断突破，具备较强的国产替代确定性，市占率有望持续提升，维持“买入”评级。 风险因素：行业周期性波动风险；下游客户扩产不及预期风险；国际贸易摩擦风险。 主要财务及估值

中微公司：半导体设备国产替代先锋。公司成立于 2004年，创始团队均为出身应用材料、泛林半导体等国际半导体设备龙头企业的核心技术人员，董事长尹志尧博士曾任应用材料副总裁、刻蚀事业部总经理、亚洲首席技术官，是国际等离子体刻蚀技术发展的重要推动者。公司于 2007年成功研制首台CCP 刻蚀机，2012年成功研制首台 MOCVD 设备，2016年成功研制 ICP 设备，产品线不断拓宽，如今已成为国际领先的 CPP 和 MOCVD 供应商。 近年来公司业绩稳健增长，半导体业务占比亦持续提高。2017-2020年，公司营收从 9.72亿元增长至 22.73亿元，三年 CAGR 达 32.73%。其中，刻蚀设备收入从 2.89亿元增长至 12.89亿元，三年 CAGR 达 64.61%，2020年收入占公司设备业务比例达 71.65%。 公司 2020年定增落地，国家大基金二期参与认购。公司定增募集 82亿元，加码研发 128层以上 CCP 刻蚀、大马士革刻蚀、7nm 以下 ICP、3nm 以下ALE 等项目，大基金参与认购 25亿元。 刻蚀：前道工艺核心，国产替代率先突破。刻蚀是前道工艺的核心环节，主流的干法刻蚀工艺包括电容性等离子刻蚀（CCP）和电感性等离子刻蚀（ICP）两种技术路线，是前道工艺中价值量最高的环节。据 SEMI 数据，2025年刻蚀设备全球市场规模将达到 150亿美元。当前市场呈现了巨头垄断的竞争格局，泛林半导体、东京电子、应用材料合计占据了 91%的市场份额。2020年以来全球半导体景气度上行，国内晶圆厂在国产替代和缺货涨价双重动力下加速建设，为国产设备厂商带来突破机遇，而刻蚀设备国产化率仍不足 20%，替代空间可观。 中微作为国内刻蚀设备龙头，截止 2020年，CCP 设备装机量达 1159台，保持了 30%的年均增速，而 ICP 设备亦已有 55个反应腔运行于 10位客户的产线。技术自主可控和先进制程能力是公司得以实现国产替代的核心优势，CCP 设备已切入台积电 5nm 产线，技术达到世界领先水平。逻辑芯片的大马士革刻蚀、128层以上 3D NAND 刻蚀、用于 GAA 结构的 ALE刻蚀等产品也已处于研发中。 MOCVD：GaN 外延设备龙头，化合物半导体空间打开：MOCVD 指金属有机化学气相沉积，常用于包括 GaN、SiC、GaAs、InP 在内的化合物半导体外延片制造，面向 LED、射频、功率、VCSELS 等下游应用。得益于miniLED 渗透带来芯片用量增长，上游 MOCVD 设备迎来需求爆发。中微蓝光 LED 设备快速成熟，与三安、晶电、兆驰等 LED 巨头保持良好合作，截止 2018年 Q4已在全球 GaN 基 MOCVD 市场占据 70%以上市场份额。用于 mini/microLED、功率半导体的设备亦在研发中。 盈利预测与投资评级：我们预计公司 2021/22/23年，营收分别为31.17/42.39/55.67亿元，归母净利润分别为 5.21/6.69/8.81亿元，对应当前股价 PE 分别为 195/152/115倍。公司作为半导体设备行业的龙头公司，随着设备技术的不断突破，具备较强的国产替代确定性，市占率有望持续提升。首次覆盖，给予“买入”评级。 风险因素：行业周期性波动风险；下游客户扩产不及预期风险；国际贸易摩擦风险。

事件概述公司发布2020年度向特定对象发行A 股股票上市公告书，本次发行A 股股票总数量为8022.9万股，发行价格为102.29元/股，发行对象共20名，限售期6个月。截至2021年6月22日，已收到认购对象缴付的认购资金净额81.18亿元。已于中国证券登记结算有限责任公司上海分公司办理完成登记托管及限售手续。 分析判断:国家大基金二期参与认购，发行后持股3.97%本次定增项目的发行对象中，国家集成电路产业基金二期获配2444.03万股，占本次发行数量的30.46%，获配金额约25亿元，本次发行后持股比例为3.97%。此外，获配的机构还有：工银瑞信基金908.2万股（占11.3%）、新加坡政府投资公司761.6万股（占9.5%）、国泰君安证券538.7万股（占6.7%）、中金公司 396.9万股（占4.9%），高毅资产379.96万股(占4.7%)。 定增三大项目，产能规模进一步扩张本次募集资金主要投向公司产业化基地建设项目、中微临港总部和研发中心项目及科技储备资金。中微产业化基地（临港）主要承担现有产品的改进升级、新产品开发生产及产能扩充，包括等离子体刻蚀设备（630腔/年）、MOCVD 设备（120腔/年）、热化学CVD 设备（220腔/年）、环境保护设备（180腔/年）。南昌产业化基地主要承担较为成熟的大规模量产及部分产品的研发升级。中微临港总部研发中心项目将搭建从研发到投产的全周期研发平台，开展高端半导体、泛半导体领域相关产品与设备制造的研发工作。其中 CCP 刻蚀设备方面，主要布局UD-RIE 刻蚀设备（主要用于128层及以上的3D NAND 极高深宽比CCP 刻蚀）以及SD-RIE 刻蚀设备（主要用于14nm 及以下逻辑器件的大马士革刻蚀）。ICP 刻蚀方面，主要布局下一代单台反应器ICP 刻蚀设备Nanova+、下一代双台反应器ICP 刻蚀设备Twin-Star+以及ALE 原子层刻蚀设备的研发。MOCVD 设备方面，主要布局碳化硅材料功率器件的外延生长设备和技术的研发 。科技储备资金将用于新产品协作开发项目（包括红黄光MOCVD、大面积平板显示、PECVD 等化学薄膜、光学检测设备等）及对外投资并购项目。定增项目的落地将进一步扩充现有集成电路设备及泛半导体设备产品线产能、提高公司产品的科技创新水平，满足公司研发项目发展与业务扩张需求，持续强化公司的科创实力，为公司持续健康发展奠定坚实基础。投资建议维持此前盈利预测，我们预计 2021-2023年公司营收分别为30.85亿元、41.28亿元、53.10亿元，归母净利分别为5.05亿元、6.41亿元、8.32亿元。2021-2023年实现每股收益为0.82元/1.04元/1.35元，对应现价 PE 分别为 184倍、145倍、112倍，我们看好公司作为国内刻蚀设备龙头，随着国内半导体行业对上游设备需求的不断提升，公司收入和净利润有望实现持续增长，维持“买入”评级。 风险提示新产品新技术研发低于预期、国产化替代进展低于预期、中美贸易摩擦加剧。

公司发布 2020年度向特定对象发行 A 股股票发行情况报告书，截至 2021年 6月 22日，已收到认购对象缴付的认购资金，扣除发行费用后实际募集资金净额为人民币 8,118,162,441.14元。本次发行 A 股股票总数量为80,229,335股，发行价格为 102.29元/股，于 2021年 6月 30日在中国证券登记结算有限责任公司上海分公司办理完成登记托管及限售手续。 支撑评级的要点20家中外知名机构参与 82亿元定增，大基金二期约占本次募集资金的30%。本次定增项目的发行对象共 20家机构，限售期为 6个月。前十大获配发行对象中，内资机构包括：国家集成电路产业投资基金二期获配24,440,316股(占 30.5%)、工银瑞信基金获配 9,082,020股(占 11.3%)、高毅资产获配 3,799,586股(占 4.7%)、河南资管及其他券商、公募基金；QFII机构包括：新加坡政府投资公司 GIC 获配 7,615,602股(占 9.5%)、法国巴黎银行获配 2,639,553股(占 3.3%)、瑞银集团 UBS AG 获配 2,326,717股(占2.9%)。本次定增发行后，国家大基金二期成为公司的第五大股东，共持股 3.97%。 定增旨在扩充现有集成电路设备及泛半导体设备产能、提高科技创新水平。本次定增募集资金将用于公司的临港产业化基地(实施 5年)、临港总部和研发中心(实施 5年)等项目建设及科技储备资金。其中，临港产业化基地的规划产能为新增等离子体刻蚀设备 630腔/年、MOCVD 设备 120腔/年、热化学 CVD 设备 220腔/年、环境保护设备 180腔/年；临港总部和研发中心将搭建技术研发、样品制造与模拟测试的全周期研发平台，开展高端集成电路及泛半导体领域的研发工作。此外，科技储备资金将用于红黄光 MOCVD、大面积平板显示、PECVD 等化学薄膜、光学检测设备等领域的协作开发项目及横向扩展集成电路关键设备、外延泛半导体设备等对外投资并购项目。定增项目的落地，将帮助产能积极应对集成电路产业景气持续上升带来的增长需求，及产品特性适应万物互联等行业发展趋势带来的新机遇。 芯片供需紧缺带来半导体设备高景气，公司 ICP 刻蚀销售放量。据公司公告，截止 2021年 6月公司的单反应台 ICP 刻蚀 Primo nanova 交付累计达100台，根据公司 2020年度业绩说明会透露，可推导 2016-2021H1的 ICP刻蚀系列逐年新增腔数为 2、6、 13、6、28及不低于 45台，2021年上半年的新增腔数比 2020年全年的至少增长 61%，ICP 刻蚀产品的年度交付量正大幅增长，此次定增项目的落地将能更好的配合产能供应，助力业绩增长。 盈利预测和投资建议维持 2021-23年公司净利润分别为 4.6/6.6/8.4亿元的预测，维持买入评级。 评级面临的主要风险行业景气高导致设备零部件采购周期拉长；研发强度大导致盈利波动； 在建项目投产计划慢于预期。